16．(1)某反应体系中有反应物和生成物共五种物质:P.H3PO4.H2O.HNO3.NO2．已知该反应中发生的还原过程为:HNO3→NO2①完成上述反应的化学方程式:P+5HNO3═H3PO4+5N——青夏教育精英家教网——

16．（1）某反应体系中有反应物和生成物共五种物质：P、H₃PO₄、H₂O、HNO₃、NO₂．已知该反应中发生的还原过程为：HNO₃→NO₂
①完成上述反应的化学方程式：P+5HNO₃═H₃PO₄+5NO₂↑+H₂O．
②若反应转移0.5mol电子，则产生的气体在标况下的体积约为：11.2L．
（2）氮化硅是一种高温陶瓷材料，其硬度大、熔点高、化学性质稳定．
①已知氮化硅中各原子最外层均达到8电子稳定结构，请写出氮化硅的化学式Si₃N₄．
②现用四氯化硅和氮气在氢气气氛保持下，加强热发生反应，可得较高纯度的氮化硅，反应的化学方程式为3SiCl₄+2N₂+6H₂═Si₃N₄+12HCl．

15．下列说法正确的是（　　）

	A．	用苯萃取溴水中的溴时，将溴的苯溶液从分液漏斗下口倒出
	B．	使用容量瓶的第一步操作是先将容量瓶用蒸馏水洗涤后烘干
	C．	检验某溶液是否含有SO₄^2-时，应取少量该溶液，依次加入BaCl₂溶液和稀盐酸
	D．	用10mL量筒量取9.2mL NaCl溶液

14．下列关于硅的说法，不正确的是（　　）

	A．	硅的化学性质不活泼，常温下不与任何物质反应
	B．	硅的导电性能介于金属和绝缘体之间，是良好的半导体材料
	C．	硅是非金属元素，它的单质是灰黑色有金属光泽的固体
	D．	加热到一定温度时硅能与H₂、O₂等非金属反应

13．下列叙述及对应的离子方程式正确的是（　　）

	A．	用氢氧化钠溶液除去铝表面的氧化膜：Al₂O₃+2OH^-═2AlO₂^-+H₂O
	B．	工业上用NO₂与水反应制取NO：3NO₂+H₂O═NO₃^-+NO+2H⁺
	C．	用Cu除去CuCl₂溶液中少量的FeCl₃杂质：Cu+2Fe³⁺═Cu²⁺+2Fe²⁺
	D．	向NaAlO₂溶液中通入过量CO₂制A（OH）₃：2AlO₂^-+CO₂+3H₂O═2A（OH）₃↓+CO₃^2-

12．胶体区别于其它分散系的本质是（　　）

	A．	胶体是一种混合物		B．	胶体粒子有颜色
	C．	胶体粒子直径在1-100nm之间		D．	光束通过胶体时有丁达尔效应

11．N_A代表阿伏加德罗常数的值，下列说法正确的是（　　）

	A．	7.8 g Na₂O₂与足量H₂O反应，电子转移1.204×10²³ N_A个
	B．	16 g O₂和O₃的混合气体中，含O原子 N_A个
	C．	1.12 L氯气中含有0.1 N_A个氯原子
	D．	标准状况下，2.24 L水中含有0.1 N_A个水分子

10．下列气体中，不能用排水法收集的是（　　）

O₂

9．下列叙述正确的是（　　）

	A．	氯化钠溶液在电流作用下电离成钠离子和氯离子．
	B．	硫酸钡难溶于水，但硫酸钡是电解质
	C．	溶于水后电离出氢离子的化合物都是酸
	D．	二氧化碳的水溶液能导电，故二氧化碳属于电解质

8．下列各组气体中，在通常条件下能稳定共存的是（　　）

NH₃、O₂、HCl

N₂、O₂、CO₂

CO₂、NO、O₂

N₂、H₂S Cl₂

7．如图所示是分离混合物时常用的仪器，从左至右，可以进行的混合物分离操作分别是（　　）

	A．	蒸馏、过滤、分液、蒸发		B．	蒸馏、蒸发、分液、过滤
	C．	分液、过滤、蒸馏、蒸发		D．	过滤、蒸发、分液、蒸馏

0 153235 153243 153249 153253 153259 153261 153265 153271 153273 153279 153285 153289 153291 153295 153301 153303 153309 153313 153315 153319 153321 153325 153327 153329 153330 153331 153333 153334 153335 153337 153339 153343 153345 153349 153351 153355 153361 153363 153369 153373 153375 153379 153385 153391 153393 153399 153403 153405 153411 153415 153421 153429 203614