碳化硅(SiC)、氧化铝(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域有重要用途.
(1)Al的原子结构示意图为
 
;Al与NaOH溶液反应的离子方程式为
 

(2)氮化硅抗腐蚀能力很强,但易被氢氟酸腐蚀,氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐,其反应方程式为
 

(3)工业上用化学气相沉积法制备氮化硅,其反应如下:
3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)
高温
Si3N4(s)+12HCl(g)△H<0
某温度和压强条件下,分别将0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密闭容器内,进行上述反应,5min达到平衡状态,所得Si3N4(s)的质量是5.60g.
①H2的平均反应速率是
 
 mol/(L?min).
②平衡时容器内N2的浓度是
 
mol?L-1
③SiCl4(g)的转化率是
 

④若按n(SiCl4):n(N2):n(H2)=3:2:6的投料配比,向上述容器不断扩大加料,SiCl4(g)的转化率应
 
(填“增大”、“减”或“不变”).
⑤工业上制备纯硅反应的热化学方程式如下:
SiCl4(g)+2H2(g)═Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ?mol-1(Q>0)
某温度、压强下,将一定量的反应物通入密闭容器进行以上的反应(此条件下为可逆反应),下列叙述正确的是
 

A.反应过程中,若增大压强能提高SiCl4的转化率
B.若反应开始时SiCl4为1mol,则达到平衡时,吸收热量为QkJ
C.当反应吸收热量为0.025QkJ时,生成的HCl通入100mL1mol?L-1的NaOH恰好反应
D.反应至4min时,若HCl的浓度为0.12mol?L-1,则H2的反应速率为0.03mol/(L?min)
 0  133732  133740  133746  133750  133756  133758  133762  133768  133770  133776  133782  133786  133788  133792  133798  133800  133806  133810  133812  133816  133818  133822  133824  133826  133827  133828  133830  133831  133832  133834  133836  133840  133842  133846  133848  133852  133858  133860  133866  133870  133872  133876  133882  133888  133890  133896  133900  133902  133908  133912  133918  133926  203614 

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