Question

10．高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”．这种材料可以按下列方法制备：
SiO₂$→_{高温}^{①C}$Si（粗）$→_{300℃}^{②HCl}$SiHCl₃$→_{1000-1100℃}^{③过量H_{2}}$Si（纯）下列说法正确的是（　　）

• A． 步骤①的化学方程式为SiO₂+C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+CO₂↑
• B． 步骤①②③中每生成或反应1 mol Si，转移4 mol 电子
• C． 二氧化硅能与氢氟酸反应，也能与氢氧化钠溶液反应，属于两性氧化物
• D． SiHCl₃（沸点33.0℃）中含有少量的SiCl₄（沸点67.6℃），通过蒸馏（或分馏）可提纯SiHCl₃

Answer 1

分析 A、二氧化硅高温下与C反应生成CO气体；
B、氧化还原反应得失电子守恒判断即可；
C、二氧化硅既能与氢氟酸反应，又能与烧碱反应，但它是酸性氧化物；
D、由沸点可知，为相差30℃以上的两种液体．

解答 解：A、二氧化硅高温下与C反应生成CO气体，即步骤①的化学方程式为：SiO₂+2C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑，故A错误；
B、步骤①中Si的化合价降低4，转移电子数为4mol，步骤②中生成SiHCl₃，化合价升高2，步骤③中每生成1mol Si，转移2mol电子，故B错误；
C、二氧化硅既能与氢氟酸反应，又能与烧碱反应，但二氧化硅和HF反应生成四氟化硅而不是盐，所以它是酸性氧化物而不是两性氧化物，故C错误；
D、沸点相差30℃以上的两种液体可以采用蒸馏的方法分离，故D正确，
故选D．

点评 本题是一道有关硅的无机推断题，考查的知识点范围较广，涉及氧化还原反应原理应用、蒸馏等，可以根据已有知识进行．