题目内容
20.下列有关物质的性质及应用说法正确的是( )| A. | 石英坩埚耐高温,可用来加热熔融氢氧化钠固体 | |
| B. | 聚氯乙烯塑料在日常生活中可用来进行食品包装 | |
| C. | 硫酸亚铁溶液和水玻璃在空气中久置后均变质 | |
| D. | 甲醛可用作食品防腐剂 |
分析 A.石英的成分是二氧化硅;
B.聚氯乙烯易分解放出有害物质;
C.硫酸亚铁具有强的还原性,能够被氧气氧化,水玻璃主要成分硅酸钠水溶液,能够吸收空气中二氧化碳,反应生成碳酸钠和硅酸;
D.甲醛有毒.
解答 解:A.石英的成分是二氧化硅,在加热条件下与NaOH反应而使坩埚炸裂,故A错误;
B.聚氯乙烯易分解放出有害物质,不能用来进行食品包装,故B错误;
C.硫酸亚铁具有强的还原性,能够被氧气氧化,水玻璃主要成分硅酸钠水溶液,能够吸收空气中二氧化碳,反应生成碳酸钠和硅酸,久置后均变质,故C正确;
D.甲醛有毒,能破坏蛋白质的结构,使之失去生理功能,故D错误.
故选C.
点评 本题考查了元素化合物知识、材料以及食品添加剂等知识,题目难度不大,熟悉变质的原理是解题关键,为易错点.
练习册系列答案
相关题目
10.设NA代表阿伏加德罗常数,以下说法正确的是( )
| A. | 氯化氢的摩尔质量等于NA个氯分子和NA个氢分子的质量之和 | |
| B. | 在1 mol NaHSO4晶体中,含阳离子数为2NA | |
| C. | 121 g CCl2F2所含的原子个数为5NA | |
| D. | 62 g Na2O溶于水后所得溶液中含有02-离子数为NA |
11.3Cu+8HNO3(稀)═3Cu(NO3)2+2NO↑+4H2O下列有关说法中不正确的是( )
| A. | HNO3在反应中既表现氧化性也表现出酸性 | |
| B. | 每生成22.4 L NO(标准状况)有3 mol电子转移 | |
| C. | HNO3作氧化剂,铜作还原剂,3 mol Cu还原8 mol的HNO3 | |
| D. | HNO3作氧化剂,铜作还原剂,3 mol Cu还原2 mol的HNO3 |
15.某不纯的烧碱样品中各成分的质量分数如表所示:
取a g样品溶于50mL2mol/L的盐酸中,充分反应后,再用适量2mol/LNaOH溶液将剩余的酸恰好中和,最后将溶液蒸干,可得干燥固体的质量为( )
| 成分 | NaOH | Na2CO3 | H2O |
| 质量分数 | 90.4% | 3.8% | 5.8% |
| A. | 2.34 g | B. | 4.68 g | C. | 5.85 g | D. | (2.34-a) g |
5.化学与生产、生活密切相关.下列叙述正确的是( )
| A. | 金属材料都是导体,非金属材料都是绝缘体 | |
| B. | 氢氧化铝可作胃酸的中和剂 | |
| C. | 浓氨水中滴加FeCl3饱和溶液可制得Fe(OH)3胶体 | |
| D. | SO2溶于水能导电,SO2属于电解质 |
10.硅及其化合物的开发由来已久,在现代生活中有广泛应用.回答下列问题.
(1)工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如图:

①还原炉中发生主要反应的化学方程式为SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+3HCl,该工艺中可循环使用的物质为HCl和H2(填化学式).用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热也可以生产碳化硅,该反应的化学方程式为SiO2+3C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$SiC+2CO↑.
②在流化床反应的产物中,SiHCl3大约占85%,还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有关物质的沸点数据如表,提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏.
③SiHCl3极易水解,其完全水解的化学方程式为SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑.
(2)氮化硅(Si3N4)是一种高温结构材料,粉末状态的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3反应制取.粉末状Si3N4遇空气和水都不稳定,但将粉末状的Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理,可以制得结构十分紧密、对空气和水都相当稳定的固体材料,同时还得到遇水不稳定的Mg3N2.
①由SiCl4和NH3反应制取Si3N4的化学方程式为3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
②四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,使生成的Si3N4沉积在石墨表面可得较高纯度的氮化硅,该反应的化学方程式为3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
③Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理的过程中,除生成Mg3N2外,还可能生成SiO2物质(填化学式).热处理后除去MgO和Mg3N2的方法是加足量稀盐酸过滤.
(1)工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如图:
| 发生的主要反应 | |
| 电弧炉 | SiO2+2C$\frac{\underline{\;1600-1800℃\;}}{\;}$si+2CO |
| 流化床反应器 | Si+3HCl$\frac{\underline{\;250-300\;}}{\;}$SiHCl3+H2 |
| 还原炉 |
②在流化床反应的产物中,SiHCl3大约占85%,还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有关物质的沸点数据如表,提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏.
| 物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸点/°C | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
(2)氮化硅(Si3N4)是一种高温结构材料,粉末状态的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3反应制取.粉末状Si3N4遇空气和水都不稳定,但将粉末状的Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理,可以制得结构十分紧密、对空气和水都相当稳定的固体材料,同时还得到遇水不稳定的Mg3N2.
①由SiCl4和NH3反应制取Si3N4的化学方程式为3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
②四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,使生成的Si3N4沉积在石墨表面可得较高纯度的氮化硅,该反应的化学方程式为3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
③Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185℃的密闭容器中进行热处理的过程中,除生成Mg3N2外,还可能生成SiO2物质(填化学式).热处理后除去MgO和Mg3N2的方法是加足量稀盐酸过滤.