题目内容
【题目】常温下,下列各组离子在指定溶液中能大量共存的是()
A.
的溶液中：
、
、
、
B.由水电离的c(H+)=1×10-14mol/L的溶液中：
、
、
、
C.
的溶液中：、
、、
D.
的溶液中：
、
、、
【答案】D
【解析】
A．pH=1的溶液是酸性溶液，在酸性条件下，NO3—具有强氧化性，可以将Fe2+氧化成Fe3+，因此NO3—与Fe2+在酸性溶液下不能共存，A项错误；
B．常温下水电离的c(H+)=1×10-14mol/L<1×10-7mol/L，说明水的电离受到抑制，是酸溶液或者碱溶液，
在酸溶液或碱溶液下都不能大量存在，B项错误；
C．Fe3+与SCN—形成络合物，不能大量共存，C项错误；
D．该溶液c(H+)> c(OH—)，是酸性溶液，NH4+、Al3+、NO3—、Cl—均能大量共存，D项正确；
答案选D。
【题目】元素单质及其化合物有广泛用途，请根据周期表中第三周期元素相关知识回答下列问题：
（1）按原子序数递增的顺序(稀有气体除外)，以下说法正确的是___。
a．原子半径和离子半径均减小 b．金属性减弱，非金属性增强
c．氧化物对应的水化物碱性减弱，酸性增强 d．单质的熔点降低
（2）原子最外层电子数与次外层电子数相同的元素名称为___，氧化性最弱的简单阳离子是___。
（3）已知：
化合物 | MgO | Al2O3 | MgCl2 | AlCl3 |
类型 | 离子化合物 | 离子化合物 | 离子化合物 | 共价化合物 |
熔点/℃ | 2800 | 2050 | 714 | 191 |
工业制镁时，电解MgCl2而不电解MgO的原因是___；制铝时，电解Al2O3而不电解AlCl3的原因是___。
（4）晶体硅(熔点1410℃)是良好的半导体材料。由粗硅制纯硅过程如下：Si(粗)
SiCl4
SiCl4(纯)
Si(纯)
写出SiCl4的电子式：___；在上述由SiCl4制纯硅的反应中，测得每生成1.12kg纯硅需吸收akJ热量，写出该反应的热化学方程式：____。
（5）P2O5是非氧化性干燥剂，下列气体不能用浓硫酸干燥，可用P2O5干燥的是____。
a．NH3 b．HI c．SO2 d．CO2
（6）KClO3可用于实验室制O2，若不加催化剂，400℃时分解只生成两种盐，其中一种是无氧酸盐，另一种盐的阴阳离子个数比为1∶1。写出该反应的化学方程式：____。
