Question

根据要求填空：
（1）关于H₂O：①分子内的O-H键，②分子间的范德华力，③分子间氢键，从强到弱顺序为

 

（填序号），在冰晶体中每个水分子周围有

 

个紧邻的水分子．
（2）金属钠在三维空间里原子堆积方式为

 

堆积．
（3）CO₃^2-离子中心原子上的孤电子对数为

 

，VSEPR模型名称为

 

．
（4）工业上合成氨的反应方程式为

 

．

Answer 1

考点：化学键和分子间作用力的区别,化学方程式的书写,判断简单分子或离子的构型,金属晶体的基本堆积模型

专题：

分析：（1）学键的键能大于氢键的作用力，氢键的作用力还大于范德华力；由于氢键具有方向性，故每个水分子周围有4个紧邻的水分子；
（2）钠晶胞中每个钠离子的配位数为8，故钠为体心立方堆积；
（3）价层电子对数=σ键电子对数+孤电子对数；根据价层电子对数判断VSEPR模型；
（4）根据反应物、生成物及可逆反应的可逆性进行书写．

解答： 解：（1）化学键的键能大于氢键的作用力，氢键的作用力还大于范德华力，故H₂O分子内的O-H键、分子间的范德华力和分子间氢键从强到弱依次为O-H键、分子间氢键、分子间的范德华力；由于氢键具有方向性，故每个水分子周围有4个紧邻的水分子，
故答案为：①③②，4
（2）钠晶胞中每个钠离子的配位数为8，故钠为体心立方堆积，
故答案为：体心立方；
（3）CO₃^2-离子中心原子是碳原子，碳原子最外层4个电子全部用于成键，没有孤电子对；价层电子对数=σ键电子对数+孤电子对数，CO₃^2-的中心原子的价层电子对数为3；VSEPR模型名称为平面三角形，
故答案为：0，平面三角形；
（4）工业合成氨的反应是可逆反应，不能进行到底，即最终得到的反应体系中既有反应物又有生成物，该反应需要一定的温度、压强和催化剂，故合成氨的反应方程式为：
N₂+3H₂

高温、高压

催化剂

 2NH₃，
故答案为：N₂+3H₂

高温、高压

催化剂

 2NH₃．

点评：本题考查了氢键的性质、金属晶体的堆积方式、分子空间构型的判断，化学方程式的书写等，难度中等．注意基础知识的积累．