题目内容
A、B、C、D是短周期元素,A原子有两个电子层,其最高正氧化态与负氧化态代数和为零.B原子的最外层电子排布式为nsnnp2n.C、D两原子的最外层电子数分别是次外层电子数的一半,其中C为半导体材料.试写出:
(1)画出B原子的轨道排布式 ;
(2)A、B元素形成的酸酐的化学式 ;
(3)D元素的单质与水反应的化学方程式 ;
(4)写出B、C元素形成的化合物与强碱反应的离子方程式 ;
(5)A、C元素气态氢化物的稳定性大小 < (用分子式表示).
(1)画出B原子的轨道排布式
(2)A、B元素形成的酸酐的化学式
(3)D元素的单质与水反应的化学方程式
(4)写出B、C元素形成的化合物与强碱反应的离子方程式
(5)A、C元素气态氢化物的稳定性大小
考点:位置结构性质的相互关系应用
专题:元素周期律与元素周期表专题
分析:四种短周期元素A、B、C、D,A原子有两个电子层,其最高正氧化态与负氧化态代数和为零,处于ⅣA族,故A为碳元素,B原子的最外层电子排布为nsnnp2n,由于s能级最大容纳2个电子,则n=2,B原子外层电子排布为2s22p4,故B为O元素;C、D两原子的最外层电子数分别是次外层电子数的一半,其中C为半导体材料,则C为Si元素,D为Li元素,据此解答.
解答:
解:四种短周期元素A、B、C、D,A原子有两个电子层,其最高正氧化态与负氧化态代数和为零,处于ⅣA族,故A为碳元素,B原子的最外层电子排布为nsnnp2n,由于s能级最大容纳2个电子,则n=2,B原子外层电子排布为2s22p4,故B为O元素;C、D两原子的最外层电子数分别是次外层电子数的一半,其中C为半导体材料,则C为Si元素,D为Li元素,故A、B、C、D四种元素分别为:C、O、Si、Li,
(1)B为氧元素,根据构造原理,O原子的轨道表示式为:
,
故答案为:
;
(2)C和O化合成二氧化碳,二氧化碳是碳酸的酸酐,故答案为:CO2;
(3)Li与水反应生成LiOH与氢气,反应的离子方程式为:2Li+2H2O=2LiOH+H2↑;
故答案为:2Li+2H2O=2LiOH+H2↑;
(4)B、C元素形成的化合物为SiO2,SiO2与氢氧化钠反应生成硅酸钠和水,反应的离子方程式为:SiO2+2OH-=SiO32-+H2O;
故答案为:SiO2+2OH-=SiO32-+H2O;
(5)非金属性越强,则气态氢化物的稳定性越强,C的非金属性强于Si,故SiH4稳定性小于CH4
故答案为:SiH4、CH4.
(1)B为氧元素,根据构造原理,O原子的轨道表示式为:
故答案为:
(2)C和O化合成二氧化碳,二氧化碳是碳酸的酸酐,故答案为:CO2;
(3)Li与水反应生成LiOH与氢气,反应的离子方程式为:2Li+2H2O=2LiOH+H2↑;
故答案为:2Li+2H2O=2LiOH+H2↑;
(4)B、C元素形成的化合物为SiO2,SiO2与氢氧化钠反应生成硅酸钠和水,反应的离子方程式为:SiO2+2OH-=SiO32-+H2O;
故答案为:SiO2+2OH-=SiO32-+H2O;
(5)非金属性越强,则气态氢化物的稳定性越强,C的非金属性强于Si,故SiH4稳定性小于CH4
故答案为:SiH4、CH4.
点评:本题考查结构性质位置关系应用,明确元素种类是解答的关键,难度不大,注意对基础知识的掌握.
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