题目内容

12.完成下列情况下的离子方程式.
(1)Fe2O3与稀盐酸反应Fe2O3+6H+=2Fe3++3H2O;
(2)KOH溶液与醋酸溶液混合:CH3COOH+OH-=CH3COO-+H2O;
(3)硫酸氢钠溶液与氨水溶液混合:H++NH3•H2O=NH4++H2O.

分析 (1)反应生成氯化铁和水;
(2)反应生成醋酸钾和水;
(3)反应生成硫酸钠、硫酸铵和水,结合离子反应中保留化学式的物质来解答.

解答 解:(1)Fe2O3与稀盐酸反应的离子反应为Fe2O3+6H+=2Fe3++3H2O,故答案为:Fe2O3+6H+=2Fe3++3H2O;
(2)KOH溶液与醋酸溶液混合的离子反应为CH3COOH+OH-=CH3COO-+H2O,故答案为:CH3COOH+OH-=CH3COO-+H2O;
(3)硫酸氢钠溶液与氨水溶液混合的离子反应为H++NH3•H2O=NH4++H2O,故答案为:H++NH3•H2O=NH4++H2O.

点评 本题考查离子反应方程式的书写,为高频考点,把握发生的反应及离子反应的书写方法为解答的关键,侧重复分解反应的离子反应考查,注意离子反应中保留化学式的物质,题目难度不大.

练习册系列答案
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20.晶体硅是信息科学和能源科学中的一种重要材料,可用于制芯片和太阳能电池等,.以下是工业上制取纯硅的一种方法.

已知:在一定条件下可发生反应:Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H<0
Ⅰ.反应②、③均需要加热,有如下两个温度区间分别供两反应选择,你认为反应②应选择a
(填序号字母),原因是因反应Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H<0,温度较低时反应向正向进行程度较大,有利于SiHCl3的生成;
a.520~530K           b.1350~1360K
Ⅱ.现在实验室模拟工业上粗硅提纯的过程,已知SiHCl3遇水强烈水解,其他相关数据如下表所示:
物质SiCl4SiHCl3AlCl3FeCl3
沸点/℃57.733.0-315
升华温度/℃--180300
(1)现用如下装置(如图1)进行模拟反应②的过程.实验室制HCl的反应原理为:
2NaCl(s)+H2SO4(浓) QUOTE 2HCl↑+Na2SO4

A中是HCl的发生装置,你认为应选择下列哪套装置?d(填装置的序号字母),装置D中碱石灰的作用为吸收剩余HCl、防止空气中的水蒸气进入C装置造成SiHCl3的水解;
(2)已知液态粗品SiHCl3中含有杂质SiCl4、AlCl3、FeCl3等,则流程中操作①为分馏(填操作名称),下列不是该操作所需的仪器是(如图2)bd(填装置序号字母);
a.冷凝管    b.圆底烧瓶  c.蒸馏烧瓶  d.分液漏斗   e.温度计  f.接受器
(3)用SiHCl3与H2反应制备纯硅的装置如图3:
①按图示组装好仪器后,下列实验步骤的正确顺序为dbacef(填步骤的序号字母),
a.打开甲装置分液漏斗旋塞,滴加稀硫酸,反应生成H2
b.向装置中添加药品;
c.打开丙装置分液漏斗的旋塞,滴加SiHCl3,并加热相应装置;
d.检查装置气密性;
e.停止向丙装置滴加SiHCl3,并停止加热相应装置;
f.停止通H2
步骤c中需要加热的装置为丙、丁(填装置序号“甲”、“乙”、“丙”、“丁”)
②该套装置的设计缺陷是无尾气处理装置.

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