题目内容
下列有关硅的叙述中,正确的是
A.工业上通常以SiO2为原料,用氧化剂与其反应制备单质硅
B.硅是构成矿物和岩石的主要元素,硅在地壳中的含量在所有元素中居第一位
C.硅的化学性质不活泼,在自然界中可以以游离态存在
D.硅在电子工业中,是重要的半导体材料
D
【解析】
试题分析:A.工业上通常以SiO2为原料,用还原剂碳与其反应制备单质硅,A错误;B.硅是构成矿物和岩石的主要元素,硅在地壳中的含量在所有元素中居第二位,氧元素是第一位,B错误;C.硅的化学性质不活泼,但硅是亲氧元素,在自然界中均以化合态存在,C错误;D.硅在电子工业中,是重要的半导体材料,D正确,答案选D。
考点:考查硅及其化合物的性质、存在和用途等
(12分)某化学小组同学发现84消毒液(主要成分为NaClO)与洁厕剂(主要成分为盐酸)室温下混和有Cl2生成,于是尝试在实验室利用该反应原理制取Cl2。
(1)若用次氯酸钙、浓盐酸为原料,利用下图装置制取Cl2。
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装置中仪器a的名称为 。
甲同学想证明Cl2溶于水有酸性物质生成,将发生装置产生的气体直接通入适量水中,并加入NaHCO3粉末,有无色气泡产生。乙同学认为不合理,理由是 。
又知:室温下H2CO3的电离常数K1=4.2×10-7,K2=5.6×10-11,则pH为8.0的NaHCO3溶液中c(CO32-):c(HCO3-)= 。
(2)经查阅资料得知:无水FeCl3在空气中易潮解,加热易升华。设计如下装置制备无水FeCl3。
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①下列操作步骤的正确排序为 (填字母)。
a.体系冷却后,停止通入Cl2
b.通入干燥的Cl2赶尽装置中的空气
c.在铁屑下方加热至反应完成
d.用干燥的H2赶尽Cl2
e.检验装置的气密性
②该实验装置存在的明显缺陷是 。
(3)世界环保联盟要求ClO2逐渐取代Cl2作为自来水消毒剂。
已知:NaCl+3H2O
NaClO3+3H2
,2NaClO3+4HCl=2C1O2
+Cl2
+2NaCl+2H2O。
有关物质性质:
物质 | 熔点/℃ | 沸点/℃ |
C1O2 | -59 | 11 |
Cl2 | -107 | -34.6 |
ClO2的生产流程示意图:
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该工艺中,需要补充的物质X为 (填化学式),能参与循环的物质是 (填化学式)。从ClO2发生器中分离出ClO2可采用的方法是 。