题目内容


在0.5mol Na2SO4中,含有的Na+数约是(  )

 

A.

3.01×1023

B.

6.02×1023

C.

0.5

D.

1


考点:

阿伏加德罗常数;电解质在水溶液中的电离.

专题:

阿伏加德罗常数和阿伏加德罗定律.

分析:

根据化学式为Na2SO4,利用硫酸钠的物质的量来确定钠离子的物质的量,再利用N=n×NA来计算钠离子的数目.

解答:

解:0.5molNa2SO4中钠离子的物质的量为0.5mol×2=1mol,

则由N=n×NA可知,

则钠离子的个数为1mol×NAmol﹣1=NA≈6.02×1023

故选B

点评:

有关阿伏伽德罗常数的计算,题目在注重对计算关系的考查的同时,又隐含对物质状态、物质结构、氧化还原反应、电离、水解知识的考查.

 

练习册系列答案
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U、V、W、X、Y、Z是原子序数依次增大的六种常见元素。Y的单质在W2中燃烧的产物可使品红溶液褪色。Z和W元素形成的化合物Z3W4具有磁性。U的单质在W2中燃烧可生成UW和UW2两种气体。X的单质是一种金属,该金属在UW2中剧烈燃烧生成黑、白两种固体。

请回答下列问题:

(1)V的单质分子的结构式为                              ;XW的电子式为                             ;Z元素在周期表中的位置是                               

(2)U元素形成的同素异形体的晶体类型可能是(填序号)                                 

①原子晶体    ②离子晶体    ③分子晶体    ④金属晶体

(3)U、V、W形成的10电子氢化物中,U、V的氢化物沸点较低的是(写化学式)
                                   ;V、W的氢化物分子结合H+能力较强的是(写化学式)                                ;用一个离子方程式加以证明                                                     

(4)YW2气体通入BaCl2和HNO3的混合溶液,生成白色沉淀和无色气体VW,有关反应的离子方程式为                                                  ,由此可知VW和YW2还原性较强的是(写化学式)                                


晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:

①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2

③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅

已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。

请回答下列问题:

(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为_______________________________。

(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl3采用的方法为____________________。

(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):

①装置B中的试剂是_________________________。

  装置C中的烧瓶需要加热,其目的是_____________________________________。

②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是______________________________________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________,装置D中发生反应的化学方程式为__________________________________________。

③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及______________________________________。

④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是_________________。

a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液    d.KSCN溶液    e.Na2SO3溶液

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