Question

（1）写出工业制单质硅（碳在高温下还原二氧化硅）的化学方程式

 

（2）写出用Fecl₃溶液作为铜制电路板的“腐蚀液”的有关反应的离子方程式

 

（3）铝与氢氧化钠溶液反应

 

（4）写出硫酸铝溶液中滴过量氨水的离子方程式

 

（5）写出氨的催化氧化的化学方程式

 

（6）硫酸铵溶液与氢化钠溶液混合加热

 

（7）写出向KAl（SO₄）₂溶液中滴加Ba（OH ）₂溶液，使SO₄^2-恰好完全沉淀的离子方程式

 

．

Answer 1

考点：硅和二氧化硅,铵盐,铝的化学性质,镁、铝的重要化合物,铁的氧化物和氢氧化物

专题：元素及其化合物

分析：（1）碳在高温下还原二氧化硅生产CO和硅；
（2）Fecl₃溶液与铜反应生产氯化亚铁和氯化铜；
（3）铝与氢氧化钠溶液反应生产偏铝酸钠和氢气；
（4）硫酸铝溶液中滴过量氨水生产氢氧化铝；
（5）氨催化氧化生产NO和水；
（6）硫酸铵溶液与氢化钠溶液混合加热生产氢气、氨气和硫酸钠；
（7）向KAl（SO₄）₂溶液中滴加Ba（OH ）₂溶液，使SO₄^2-恰好完全沉淀，生产硫酸钡和偏铝酸钾．

解答： 解：（1）碳在高温下还原二氧化硅生产CO和硅，反应的化学方程式为2C+SiO₂　

高温  .

Si+2CO↑，
故答案为：2C+SiO₂　

高温  .

Si+2CO↑；
（2）FeCl₃溶液腐蚀电路板的离子方程式为：2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺，故答案为：2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺；
（3）铝与NaOH溶液反应生成偏铝酸钠和氢气，化学反应为2Al+2NaOH+2H₂O=2NaAlO₂+3H₂↑，故答案为：2Al+2NaOH+2H₂O=2NaAlO₂+3H₂↑．；
（4）硫酸铝溶液与氨水反应可生成氢氧化铝沉淀和硫酸铵，氢氧化铝不能溶于弱碱，
则该反应为Al₂（SO₄）₃+3NH₃．H₂O═2Al（OH）₃↓+3（NH₄）₂SO₄，
其离子反应为Al³⁺+3NH₃．H₂O═Al（OH）₃↓+3NH₄⁺，故答案为：Al³⁺+3NH₃．H₂O═Al（OH）₃↓+3NH₄⁺；
（5）氨气在催化剂作用下反应生成一氧化氮和水，4NH₃+5O

催化剂 .

△

 4NO+6 H₂O，故答案为：4NH₃+5O

催化剂 .

△

 4NO+6 H₂O；
（6）硫酸铵溶液与氢化钠溶液混合加热生产氢气、氨气和硫酸钠，反应的离子方程式为NaH+NH₄⁺=NH₃↑+Na⁺+H₂↑，
故答案为：NaH+NH₄⁺=NH₃↑+Na⁺+H₂↑；
（7）假设SO₄^2-的物质的量为2mol，则明矾溶液中含有2mol SO₄^2-，1molAl³⁺，向明矾溶液中逐滴加入Ba（OH）₂溶液至SO₄^2-刚好沉淀完全时，需要2molBa（OH）₂，即加入的Ba²⁺为2mol，OH^-为4mol，生成2molBaSO₄，1molAl³⁺与4molOH^-反应生成1molAlO₂^-，反应的离子方程式为Al³⁺+2SO₄^2-+2Ba²⁺+4OH^-═2BaSO₄↓+AlO₂^-+2H₂O，故答案为：Al³⁺+2SO₄^2-+2Ba²⁺+4OH^-═2BaSO₄↓+AlO₂^-+2H₂O．

点评：本题综合考查元素化合物知识，侧重化学方程式、离子方程式的书写，为高频考点，主要把握物质的性质，为解答该题的关键，难度中等．