题目内容

9.已知0.1mol/L的醋酸溶液中存在电离平衡:CH3COOH?CH3COO-+H+,要使CH3COOH的电离程度增大,可以采取的措施是(  )
①加少量CH3COONa固体 ②升高温度 ③加少量冰醋酸 ④加水.
A.①②B.①③C.③④D.②④

分析 醋酸溶液中存在电离平衡:CH3COOH?CH3COO-+H+,醋酸浓度越大,其电离程度越小,要使CH3COOH的电离程度增大,则应该使醋酸的浓度减小,据此结合影响弱电解质的电离平衡的因素进行判断.

解答 解:①加少量CH3COONa固体,醋酸根离子浓度增大,电离平衡性质逆向移动,则醋酸的电离程度减小,故①错误;
②弱电解质的电离过程为吸热反应,升高温度,电离平衡向着正向移动,则醋酸的电离程度增大,故②正确;
③加少量冰醋酸,醋酸的浓度增大,则醋酸的电离程度减小,故③错误;
④加水,醋酸浓度减小,则醋酸的电离程度增大,故④正确;
故选D.

点评 本题考查了弱电解质的电离平衡及其影响,题目难度不大,明确影响弱电解质的电离平衡的因素为解答关键,注意弱电解质的电离为吸热过程,试题培养了学生的分析能力及灵活应用能力.

练习册系列答案
相关题目
16.硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了许多奇迹.
(l)新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定.工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCI4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程式3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
(2)已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物)合成氮化硅的主要工艺流程如图:

①净化N2和H2时,铜屑的作用是除去原料气中的氧气;硅胶的作用是除去生成的水蒸气.
②在氮化炉中3Si(s)+2N2(g)=Si3N4(S)△H=-727.5kJ.mol-l,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度?该反应为放热反应,防止局部过热,导致硅熔化熔合成团,阻碍与N2的接触;体系中要通人适量的氢气是为了将体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去(或将整个体系中空气排尽).
③X可能是硝酸(选填“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”或“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如图所示的流程制取纯硅:

①整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水能发生剧烈反应,写出该反应的化学方程式SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl.
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应I中HCI的利用率为90%,反应II中H2的利用率为93.750/0.则在第二轮次的生产中,补充投入HC1和H:的物质的量之比是5:1.

违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com

精英家教网