题目内容
8.下列各组物质中,一定既不是同系物,又不是同分异构体的是( )| A. | C2H4和C5H6 | B. | 乙醇和二甲醚 | ||
| C. | 正丁烷和异戊烷 | D. | 一溴乙烷和二溴乙烷 |
分析 有机化合物中具有同一通式、组成上相差1个或n个CH2原子团、在结构与性质上相似的化合物互为同系物;
具有相同分子式而结构不同的化合物互为同分异构体;根据以上概念进行判断.
解答 解:A、C2H4和C5H6的通式不同,故一定不是同系物;且分子式不同,故也不是同分异构体,故A正确;
B、乙醇和二甲醚的分子式相同而结构不同,故互为同分异构体,故B错误;
C、正丁烷和异戊烷符合同一通式,结构相似,在分子组成上相差一个或若干个CH2原子团,故互为同系物,故C错误;
D、一溴乙烷和二溴乙烷的通式不同,故不是同系物;分子式也不相同,故不是同分异构体,故D正确.
故选AD.
点评 本题考查了同系物、同分异构体的判断,题目难度不大,注意掌握同系物、同分异构体的概念及正确的判断方法,明确互为同系物的有机物必须具有相似的结构:若含有官能团,则官能团的种类及数目必须完全相同.
练习册系列答案
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18.下列有关分类结果中正确的是( )
| A. | H2O、D2O、HD均是化合物 | B. | 碱性氧化物均是金属氧化物 | ||
| C. | 能与NaOH溶液反应的盐均是酸式盐 | D. | CCl4、酒精、氯气均是非电解质 |
19.SO2通入足量Fe(NO3)3稀溶液中,溶液由棕色变为浅绿色,但立即又变为棕黄色,这时若滴入BaCl2溶液,会产生白色沉淀.针对上述一系列变化过程中,下列说法中不正确的是( )
| A. | 上述过程中,最终被还原的是NO3- | |
| B. | 从上述过程中可以得出结论,氧化性:HNO3>Fe3+>稀H2SO4 | |
| C. | 假设通入的SO2完全反应,则同温同压下,SO2和逸出气体的体积为1:1 | |
| D. | 上述过程中,会产生一种无色的难溶于水的气体 |
13.分枝酸可用于生化研究.其结构简式如图,下列关于分枝酸的叙述正确的是( )

| A. | 分子式为C9H10O6 | |
| B. | 可与乙醇、乙酸反应,且反应类型相同 | |
| C. | 可使溴的四氧化碳溶液,酸性高锰酸钾溶液褪色,且原理相同 | |
| D. | 分子中含有三种官能团 |
20.下列说法正确的是( )
| A. | 粗硅制备单晶硅不涉及氧化还原反应 | |
| B. | 硅胶常用做实验时和袋装食品、瓶装药品的干燥剂 | |
| C. | 纯净的硅可做光导纤维的原料 | |
| D. | 水晶项链和餐桌上的瓷盘都是硅酸盐制品 |
17.下列溶液中,肯定呈酸性的是( )
| A. | 含H+的溶液 | |
| B. | pH<7的溶液 | |
| C. | c(OH-)<c(H+)的溶液 | |
| D. | 25℃时,由水电离出来的c(H+)=1×10-9mol/L的溶液 |
18.单晶硅是信息产业中重要的基础材料.通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质).粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450:500℃)四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅.以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.

相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易反应;
b.硝、铝、铁、磷在高温下均能与氧气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见表:
请回答下列问题:
(1)写出装置A中反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl-$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$Mn2++Cl2↑+2H2O;制备粗硅的化学反应方程式2C+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑.
(2)装置B中的试剂是饱和食盐水;装置C中的试剂是浓硫酸;装置E中的h瓶需要冷却理由是产物SiCl4沸点低,需要冷凝收集;干燥管F中碱石灰的作用是吸收空气中的水蒸气.
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物含有多种杂质:BCl3、AlCl3、FeCl3、PCl3,根据题给信息,可通过蒸馏(填操作名称),得到高纯度四氯化硅.
(4)从二氧化硅到高纯硅的生产流程中,经历了一系列氧化还原反.涉及多种含硅物质,这些含硅的物质中,作为氧化剂的有SiO2、SiCl4;作为还原剂的有Si.
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易反应;
b.硝、铝、铁、磷在高温下均能与氧气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见表:
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl3 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
| 熔点/℃ | -70.0 | -17.2 | - | - | - |
| 升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 163 |
(1)写出装置A中反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl-$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$Mn2++Cl2↑+2H2O;制备粗硅的化学反应方程式2C+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2CO↑.
(2)装置B中的试剂是饱和食盐水;装置C中的试剂是浓硫酸;装置E中的h瓶需要冷却理由是产物SiCl4沸点低,需要冷凝收集;干燥管F中碱石灰的作用是吸收空气中的水蒸气.
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物含有多种杂质:BCl3、AlCl3、FeCl3、PCl3,根据题给信息,可通过蒸馏(填操作名称),得到高纯度四氯化硅.
(4)从二氧化硅到高纯硅的生产流程中,经历了一系列氧化还原反.涉及多种含硅物质,这些含硅的物质中,作为氧化剂的有SiO2、SiCl4;作为还原剂的有Si.