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16.在一定温度下,向不同电解质溶液中加入新物质时,其电流强度(I)随新物质加入量(m)的变化曲线不正确
的是(  )
ABCD
[来源:]
向Ba(OH)2溶液中逐滴加入等浓度的H2SO4至过量向醋酸溶液中逐滴加入等浓度的氨水至过量向盐酸溶液中逐滴加入等浓度的NaOH溶液至过量向氨水中逐滴加入等浓度的盐酸至过量
A.AB.BC.CD.D

分析 液的导电性与离子浓度大小有关,离子浓度越大,溶液导电性越强,结合反应的离子方程式或化学方程式以及电解质的强弱进行判断.

解答 解:A.Ba(OH)2+H2SO4=BaSO4↓+2H2O,滴入H2SO4时生成沉淀和弱电解质,导电性减弱,完全反应后,H2SO4过量,导电性又增强,与图象一致,故A不选;
B.CH3COOH+NH3•H2O=CH3COONH4+H2O,导电性增强,但氨水过量后,将溶液稀释,导电性减弱,与图象一致,故B不选;
C.向盐酸溶液中逐滴加入等浓度的NaOH溶液会发生反应得到氯化钠溶液,溶液导电性不变,至过量相当于将溶液稀释,所以溶液导电性减弱,和图象不符,故C选;
D.向氨水中逐滴加入等浓度的盐酸会发生反应得到氯化氨溶液,导电性增强,但是盐酸过量,浓度是一样的,所以溶液导电性几乎不变,和图象相符,故D不选;
故选C

点评 本题考查电解质溶液导电性判断,为高频考点,电解质溶液导电性强弱与离子浓度成正比,与电解质强弱无关,明确反应实质及混合溶液中溶质及其性质是解本题关键,为易错题.

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6.硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个有一个奇迹.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定.工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCl4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程式3SiCl4+2N2+6H2═Si3N4+12HCl.
(2)一种用工业硅(含少量钾、钠、铁、铜的氧化物),已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅.一种合成氮化硅的工艺主要流程如下:

①净化N2和H2时,铜屑的作用是:除去原料气中的氧气;硅胶的作用是除去生成的水蒸气.
②在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)=Si3N4(s)△H=-727.5kJ/mol,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度该反应为放热反应,防止局部过热,导致硅熔化熔合成团,阻碍与N2的接触;体系中要通入适量的氢气是为了将体系中的氧气转化为水蒸气,而易被除去(或将整个体系中空气排尽).
③X可能是硝酸(选填:“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”).
(3)工业上可以通过如下图所示的流程制取纯硅:

①整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应,写出该反应的化学方程式SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl.
②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应I中HCl的利用率为90%,反应II中H2的利用率为93.75%.则在第二轮次的生产中,补充投入HCl 和H2的物质的量之比是5:1.

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