题目内容

8．NA代表阿伏加德罗常数．下列有关说法正确的是（　　）
A．1L0.5mol/LNaHCO3溶液中HCO3-的数目小于0.5 NA
B．1mol-OH和1molOH-所含电子数为NA
C．25℃时，0.1mol/LKOH溶液中含有OH-的数目为0.1NA
D．78g苯中含有碳酸双键的数目为3NA

分析 A、HCO3-在溶液中既能水解又能电离；
B、-OH不带电荷；
C、溶液体积不明确；
D、苯不是单双键交替的结构．

解答 解：A、HCO3-在溶液中既能水解又能电离，故溶液中HCO3-的个数小于0.5NA个，故A正确；
B、-OH不带电荷，故1mol-OH中含9mol电子即9NA个，故B错误；
C、溶液体积不明确，故溶液中氢氧根的个数无法计算，故C错误；
D、苯不是单双键交替的结构，故苯的结构中无碳碳双键，故D错误．
故选A．

点评 本题考查了阿伏伽德罗常数的有关计算，掌握物质的量的计算公式和物质结构是解题关键，难度不大．

练习册系列答案
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18．下列有关命名的说法正确的是（　　）
A．主链上的碳原子数是5B．名称是3甲基2丁烯
C．加氢后可以得到3-甲基戊烷D．的名称是1，3，4-三甲基苯
19．晶体硼的结构单元是正二十面体，每个单元中有12个硼原子（如图）．若其中有两个原子为10B，其余为11B，则该结构单元结构类型有（　　）
A．1种B．3种C．5种D．4种
16．将SO2通入BaCl2溶液至饱和，未见沉淀，继续通入某气体仍无沉淀，则该气体可能是（　　）
A．Cl2B．NH3C．NO2D．CO2
3．近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、传统的FeCl3型（HCl-FeCl3）等方法．蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失．几种蚀刻废液的常用处理方法如下：

（1）FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生．发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还有Fe+2Fe3+=3Fe2+、2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-．（用离子方程式表示）．
（2）HCl-H2O2型蚀刻液在蚀刻电路板过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O．
（3）处理H2O2型酸性废液回收Cu2（OH）2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜，导致产品颜色发暗．
13．下列各组中的反应，属于同一反应类型的是（　　）
A．1-丙醇制丙烯；丙烯与溴水反应制1，2-二溴丙烷
B．溴乙烷水解制丙醇；丙烯与水反应制丙醇
C．甲苯硝化制对硝基甲苯；甲苯氧化制苯甲酸
D．乙酸和乙醇制乙酸乙酯；苯甲酸乙酯水解制苯甲酸和乙醇
20．有机物A常用作有机合成的中间体．15.2g该有机物燃烧生成26.4gCO2和14.4gH2O；质谱图表明其相对分子质量为76，红外光谱分析表明A分子中含有O-H键和C-O键．核磁共振氢谱上有三个峰，峰面积之比为2：1：1．A能发生如图转化：
已知：A的相对分子质量比B的相对分子质量大18．
请完成下列填空：
（1）A的分子式是C3H8O2．有机物B中含氧官能团的名称是羟基．
（2）D→E的化学方程式为OHCCH2CHO+4Ag（NH4）2OH$\stackrel{△}{→}$NH4OOCCH2COONH4+4Ag↓+6NH3+2H2O．
（3）B的同分异构体H含，则H的结构简式可能为CH3CH2CHO、．
（4）A+F→G的化学方程式为n HOCH2CH2CH2OH+n HOOCCH2COOH$→_{△}^{浓硫酸}$+（2n-1）H2O．
6．下列实验中所选试剂和方法都正确的是B
A．除去氯化钠溶液中的氯化镁，用氯化钾溶液，过滤
B．除去碳酸钠固体中的碳酸氢钠，加热
C．除去乙酸乙醇中的少量乙酸，用乙醇和浓硫酸，加热
D．除去甲烷中的乙烯，用酸性高锰酸钾溶液，洗气
E．干燥氯化氢、二氧化碳、氨气、氢气，用浓硫酸，洗气．
7．甲乙两份铝屑，分别与同浓度的盐酸和NaOH溶液反应，产生的氢气的体积比为1：2（相同状况下），则甲乙反应中消耗酸、碱的物质的量之比为   （　　）
A．1：lB．1：2C．3：2D．2：3

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