下列各组中的离子.能在无色溶液中大量共存的是A. H+. K+. CO32-. SO42- B. Fe3+.Na+.NO3-.SO42-C. Mg2+.Ba2+.OH-.NO3- D. K+.Mg2+.NO3-.Cl- 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

下列各组中的离子，能在无色溶液中大量共存的是

A. H＋、 K＋、 CO32－、 SO42－ B. Fe3+、Na＋、NO3－、SO42－

C. Mg2+、Ba2+、OH－、NO3－ D. K＋、Mg2+、NO3－、Cl－

练习册系列答案

相关题目

工业上以软锰矿（主要成分是MnO2，含有SiO2、Fe2O3等少量杂质）为主要原料制备高性能的磁性材料碳酸锰（MnCO3）。其工业流程如下：

（1）过滤Ⅰ所得滤液中主要存在的两种金属阳离子为____和_____（填离子符号）。

（2）写出氧化过程中MnO2与SO2反应的化学方程式：____________。

（3）“浸锰”反应中往往有副产物MnS2O6生成，温度对“浸锰”反应的影响如图所示，为减少MnS2O6的生成，“浸锰”的适宜温度是___________。

（4）向过滤Ⅱ所得的滤液中加入NH4HCO3溶液时温度控制在30-35℃，温度不宜太高的原因是___。

（5）加入NH4HCO3溶液后，生成MnCO3沉淀，同时还有气体生成，写出反应的离子方程式：_______。

（6）生成的MnCO3沉淀需经充分洗涤，检验洗涤是否完全的方法是_________________。

常温下，如果取0.1mol/LHA溶液与0.1mol/LNaOH溶液等体积混合（忽略混合后溶液体积的变化），测得混合溶液的pH=8。试回答下列问题：

（1）混合溶液pH=8的原因是______________（用离子方程式表示）

（2）混合溶液中由水电离出的c(OH-)___________(填“大于”、“等于”或“小于”)0.1mol/LNaOH溶液中由水电离出的c(OH-)

（3）求出混合溶液中下列算式的精确计算结果（填具体数字）：

c(Na+)- c(A-)=____________mol/L, c(OH-)- c(HA)=____________mol/L

常温下，将PH=2的酸HA溶液与PH＝12的NaOH溶液等体积混合后，所得溶液PH_________7 (填“大于”、“等于”或“小于”)

（5）已知NH4A溶液为中性，又知HA溶液加到Na2CO3溶液中有气体放出，试推断(NH4)2CO3溶液的PH___________7(填“大于”、“等于”或“小于”)。

下列化学用语对应正确的是( )

A. CH4分子的比例模型： B. 乙酸的化学式：C2H4O2

C. 乙烯的结构简式CH2CH2 D. F－的结构示意图：

下列说法正确的是

A. 氧化剂在反应中失去电子，还原剂在反应中得到电子

B. 金属在反应中只能作还原剂，非金属在反应中只能作氧化剂

C. 阳离子只有氧化性，阴离子只有还原性

D. 氧化剂具有氧化性，还原剂具有还原性

下列离子方程式正确的是

A. 铁跟稀硫酸反应：2Fe+6H+=2Fe3++3H2↑

B. 碳酸钠溶液与盐酸反应：Na2CO3+2H+=2Na++CO2↑+H2O

C. 向氯化铝溶液中加入过量氢氧化钠溶液：Al3++4OH-＝AlO +2H2O

D. 稀硫酸和氢氧化钡溶液反应：Ba2++SO42-=BaSO4↓

在半导体工业中，有一道工序叫烧氢。烧氢的工艺流程如图所示。

工作时，是将石英管D出口处氢气点燃。半导体硅片、焊片和金属零件从石英管口送入加热区，在氢气还原气氛中加热使焊片熔化，将单晶硅与金属零件焊接在一起。焊接后再将零件拉至冷却区，冷却后取出。烧氢工艺中的氢气纯度要求极高，工业氢气虽含氢量达99.9％，但仍含有极微量的水蒸气和氧气，所以点燃氢气前应检验氢气的纯度。试回答下列问题：

（1）装置B的作用是________；B中发生反应的化学方程式是________。

（2）装置C中的物质是________；C的作用是________。

（3）点燃氢气前将E（带导管胶塞）接在D出口处，目的是________。

（4）装置A是安全瓶，可以防止氢气燃烧回火，引起爆炸，其中填充大量纯铜屑的作用是________。

有BaCl2和NaCl混合溶液aL，将它均分成两份。一份滴加硫酸，使Ba2+完全沉淀；另一份滴加AgNO3溶液，使Cl-完全沉淀．反应中消耗 x mol H2SO4、y mol AgNO3．据此得知原混合溶液中的c（Na+）为

A. (2y-4x) /a mol·L-1 B. (y-2x) /a mol·L-1

C. (2y-2x) /a mol·L-1 D. (y-x) /a mol·L-1

【化学——选修5：有机化学基础】

1,6—己二酸（G）是合成尼龙的主要原料之一，可用烃A氧化制备。制备G的合成路线如下：

回答下列问题：

(1)写出化合物C的系统命名_________ ；化合物A通过质谱测得相对分子质量为82，则A的化学名称为__________。

(2)C→D的反应类型为__________。

(3)F的结构简式为__________。

(4)写出能同时满足下列条件的X的同分异构体的结构简式___________。

①相对分子质量与F相等

②烃的含氧衍生物，能发生银镜反应

③核磁共振氢谱中有三组峰，面积比为3:2:1

(5)由G合成尼龙的化学方程式为__________。

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