题目内容
13.硅是信息技术的关键材料,高温下氢气与四氯化硅(SiCl4)反应可制得 高纯度的硅,该反应的化学反应方程式为:2H2+SiCl4$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+4X,下列说法正确的是( )| A. | 推出 X 是氯化氢气体,它溶于水可制成盐酸 | |
| B. | 该反应可以在有氧气或水蒸气存在的条件下进行 | |
| C. | 四氯化硅是由一个硅原子和四个氯原子构成 | |
| D. | 该生产过程中的氢气可用碳单质代替 |
分析 根据题意,高温下氢气与四氯化硅(SiCl4)反应可制得高纯度的硅,同时生成氯化氢气体,根据反应的化学方程式,根据质量守恒定律,进行分析.
解答 解:高温下氢气与四氯化硅(SiCl4)反应可制得高纯度的硅,同时生成氯化氢气体,反应的化学方程式为2H2+SiCl4$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+4X,根据质量守恒定律,反应前H原子个数为4个,Si原子个数为1个,Cl原子个数为4个;反应后Si原子个数为1个,故推测X中有1个H原子和1个Cl原子,为HCl.
A、推出X是氯化氢气体,它溶于水可制成盐酸,故正确;
B、该反应不能在有氧气或水蒸气存在的条件下进行,因为有氢气,会发生爆炸,故错误;
C、一个四氯化硅分子是由一个硅原子和四个氯原子构成,故原说法错误;
D、该生产过程中的氢气不可用碳单质代替,否则生成的硅中会有杂质碳,故错误.
故选:A.
点评 本题难度不大,考查学生根据反应原理书写化学方程式的能力,化学方程式书写经常出现的错误有不符合客观事实、不遵守质量守恒定律、不写条件、不标符号等.
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