26、单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质
SiCl4
BCl3
AlCl3
FeCl3
PCl5
沸点/℃
57.7
12.8
-
315
-
熔点/℃
-70.0
-107.2
-
-
-
升华温度/℃
-
-
180
300
162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式               

(2)装置A中g管的作用是              ;装置C中的试剂是     

装置E中的h瓶需要冷却理由是          

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是         (填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+ ,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2+ + MnO4- + 8H+ = 5Fe3+ + Mn2+ + 4H2O

①滴定前是否要滴加指示剂?   (填“是”或“否”),请说明理由          

②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,

用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是      

 0  442986  442994  443000  443004  443010  443012  443016  443022  443024  443030  443036  443040  443042  443046  443052  443054  443060  443064  443066  443070  443072  443076  443078  443080  443081  443082  443084  443085  443086  443088  443090  443094  443096  443100  443102  443106  443112  443114  443120  443124  443126  443130  443136  443142  443144  443150  443154  443156  443162  443166  443172  443180  447090 

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