【题目】光刻胶是大规模集成电路、印刷电路版和激光制版技术中的关键材料,某一光刻胶M的合成路线如下: (部分试剂、反应条件和产物已略去)

已知:

(R1R2为烃基或氢)

(R1R2为烃基)

1)写出A的结构简式______B分子中的含氧官能团的名称为_______________

2)写出B与银氨溶液发生反应的化学方程式____________________________________

3)下列有关光刻胶M的说法正确的是______________________(填字母序号)。

a.可稳定存在于碱性溶液中

b.化学式为C11H10O2

c.可发生氧化反应、还原反应、取代反应

d. 1mol该物质与足量H2发生加成反应时可消耗4mol H2

4)乙炔和羧酸X发生加成反应生成EE的核磁共振氢谱有三组峰,且峰面积比为3:2:1 E能使溴水褪色且能发生水解反应,则F的结构简式为________________________

5)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体还有______种(不考虑立体异构);C的另一种同分异构体满足下列条件:①能发生银镜反应和水解反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应苯环上的一氯取代产物只有两种,写出该同分异构体的结构简式:_________

6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图_______________________(无机试剂任意选用),合成路线流程图示例如下: CH3CH2Br CH3CH2OHCH3COOCH2CH3

 0  200474  200482  200488  200492  200498  200500  200504  200510  200512  200518  200524  200528  200530  200534  200540  200542  200548  200552  200554  200558  200560  200564  200566  200568  200569  200570  200572  200573  200574  200576  200578  200582  200584  200588  200590  200594  200600  200602  200608  200612  200614  200618  200624  200630  200632  200638  200642  200644  200650  200654  200660  200668  203614 

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