Question

【题目】光刻胶是大规模集成电路、印刷电路版和激光制版技术中的关键材料，某一光刻胶M的合成路线如下： (部分试剂、反应条件和产物已略去)

已知：

Ⅰ．(R1，R2为烃基或氢)

Ⅱ．(R1，R2为烃基)

（1）写出A的结构简式______，B分子中的含氧官能团的名称为_______________。

（2）写出B与银氨溶液发生反应的化学方程式____________________________________。

（3）下列有关光刻胶M的说法正确的是______________________（填字母序号）。

a．可稳定存在于碱性溶液中

b．化学式为C11H10O2

c．可发生氧化反应、还原反应、取代反应

d. 1mol该物质与足量H2发生加成反应时可消耗4mol H2

（4）乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E的核磁共振氢谱有三组峰，且峰面积比为3:2:1， E能使溴水褪色且能发生水解反应，则F的结构简式为________________________。

（5）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体还有______种（不考虑立体异构）；C的另一种同分异构体满足下列条件:①能发生银镜反应和水解反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应②苯环上的一氯取代产物只有两种,写出该同分异构体的结构简式:_________。

（6）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图_______________________(无机试剂任意选用)，合成路线流程图示例如下： CH3CH2Br CH3CH2OHCH3COOCH2CH3

Answer 1

【答案】 醛基 c 4 , CH3CHOCH3CH=CHCHO CH3CH=CHCOOHCH3CH2CH2COOH。

【解析】

试题根据D，可以反推出A为，B为，C为，羧酸X为CH3COOH，E为，F为，根据此分析进行解答。

（1）A是苯甲醛，A的结构简式，B为，含氧官能团为醛基。

故答案为 醛基

（2）已知B为，和银氨溶液发生化学反应为：

故答案为

（3）D与G生成光刻胶，结合信息Ⅱ，光刻胶的结构简式为，

A．酯基会与碱溶液发生反应，故A选项错误。

B．光刻胶为聚合物，其单体的化学式是C11H10O2，故B选项错误。

C．由该化合物的结构简式可知，化合物含有C=C和酯基，可以发生氧化反应、还原反应、取代反应，故C选项正确。

D．C=C及苯环均与氢气发生加成反应，则1mol该物质可消耗4nmolH2，故D选项错误。

故答案选C

（4）根据分析可得E的核磁共振氢谱有三组峰，且峰面积比为3:2:1， E能使溴水褪色且能发生水解反应，故E中含有碳碳双键与酯基，E为，F为。

故答案为

（5）C为含有相同官能团且含有苯环结构，有乙烯基与羧基在苯环邻位、间位、对位三种和羧基位于乙烯基另外一个碳原子上，共四种同分异构体。能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应，说明HCOO-直接与苯环相连；②苯环上的一氯取代产物只有两种，说明苯环有2个对位上的取代基。符合条件的C的同分异构体的结构简式是。

故答案为 4

（6）2分子CH3CHO合成CH3CH=CHCHO，CH3CH=CHCHO氧化为CH3CH=CHCOOH，CH3CH=CHCOOH与氢气发生加成反应生成CH3CH2CH2COOH，合成路线是

故答案为