【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。查阅相关资料获悉:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/

57.7

315

熔点/

-70.0

升华温度/

180

300

162

请回答下列问题:

1)写出装置A中发生反应的离子方程式___

2)装置Ag管的作用是___;装置C中的试剂是___;装置E中的h瓶需要冷却理由是___

3)装置Eh瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,含有铁、铝等元素的杂质。为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原反应滴定,锰元素被还原为Mn2+

①写出用KMnO4滴定Fe2+的离子方程式:___

②滴定前是否要滴加指示剂?___(填),判断滴定终点的方法是___

③某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液,移取25.00mL试样溶液,用1.000×10-2mol·L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00mL,则残留物中铁元素的质量分数是___

 0  199626  199634  199640  199644  199650  199652  199656  199662  199664  199670  199676  199680  199682  199686  199692  199694  199700  199704  199706  199710  199712  199716  199718  199720  199721  199722  199724  199725  199726  199728  199730  199734  199736  199740  199742  199746  199752  199754  199760  199764  199766  199770  199776  199782  199784  199790  199794  199796  199802  199806  199812  199820  203614 

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