题目内容
3．下列装置正确的是（ ）| A． |  不能用来检验CH3COOH、H2CO3、H2SiO3酸性的强弱 | |
| B． |  可用来制取并收集氯气 | |
| C． |  可用来分离氢氧化铁胶体中的胶体粒子 | |
| D． |  可用来配制一定物质的量浓度的稀硫酸 |
分析 A．醋酸易挥发，醋酸与碳酸钠、硅酸钠均反应；
B．浓盐酸与二氧化锰加热制取氯气；
C．胶体与离子均可透过滤纸；
D．不能将浓硫酸直接注入容量瓶中．
解答 解：A．图中发生强酸制取弱酸的反应，醋酸易挥发，醋酸与碳酸钠、硅酸钠均反应，则不能比较碳酸、硅酸的酸性，故A正确；
B．浓盐酸与二氧化锰加热制取氯气，图中缺少酒精灯加热，且尾气处理装置易发生倒吸，故B错误；
C．胶体与离子均可透过滤纸，不能利用过滤法分离，应选渗析法，故C错误；
D．不能将浓硫酸直接注入容量瓶中，应在烧杯中稀释、冷却后转移到容量瓶中定容，故D错误；
故选A．
点评 本题考查化学实验方案的评价，为高频考点，涉及酸性比较、气体的制备、混合物分离提纯、溶液配制等，把握物质的性质及反应原理、实验技能为解答的关键，侧重分析与实验能力的考查，题目难度不大．
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13．一种抗高血压的药物甲基多巴的结构简式如图所示，下列说法正确的是（ ）
| A． | 1 mol甲基多巴的分子中含有4 mol双键 | |
| B． | 每个甲基多巴分子中含有一个手性碳原子 | |
| C． | 1 mol甲基多巴最多能与2 mol Br2发生取代反应 | |
| D． | 甲基多巴既能与盐酸反应，又能与氢氧化钠溶液反应 |
14．已知A、B、C、D、E都是周期表中前四周期的元素，它们的核电荷数依次增加．相关信息如下表所示，根据推断回答下列问题：（答题时A、B、C、D、E用所对应的元素符号表示）
（1）E在周期表中位于第四周期第ⅠB族
（2）A、B、D三种元素电负性由大到小排列顺序为N＞C＞Si
（3）A和B的最简单氢化物中沸点较高的NH3．原因是NH3分子间存在氢键．
（4）已知：
①AH4（g）+2BO2（g）-B2（g）+AO2（g）+2H2O（g） H1=-867kJ•mol-1
②2BO2（g）-B2 O4（g） H2=-56.9kJ•mol-1
写出AH4和B2O4反应的热化学方程式CH4（g）+N2O4（g）═N2（g）+CO2（g）+2H2O（g）△H=-810.1kJ/mol．
| A | A的一种单质在自然界中硬度最大 |
| B | B元素的第一电离能比同周期相邻两个元素都大 |
| C | 同周期中，C元素的最高价氧化物对应的水化物的碱性最强 |
| D | D的基态原子M层电子数是K层的2 倍 |
| E | E与C位于不同周期，E原子核外最外层电子数与C相同，其余各层电子均充满 |
（2）A、B、D三种元素电负性由大到小排列顺序为N＞C＞Si
（3）A和B的最简单氢化物中沸点较高的NH3．原因是NH3分子间存在氢键．
（4）已知：
①AH4（g）+2BO2（g）-B2（g）+AO2（g）+2H2O（g） H1=-867kJ•mol-1
②2BO2（g）-B2 O4（g） H2=-56.9kJ•mol-1
写出AH4和B2O4反应的热化学方程式CH4（g）+N2O4（g）═N2（g）+CO2（g）+2H2O（g）△H=-810.1kJ/mol．
11．原子序数依次增大的X、Y、Z、M、W为五种短周期元素．已知Y与Z、M与W分别同周期，X与M同主族；X、Z、M的质子数之和等于Y、W的质子数之和；X与Z、M与Z都可以分别形成A2B、A2B2型的化合物；X与Y形成的气态化合物在标准状况下的密度为0.76g•L-1；Y、M、W的最高价氧化物的水化物，两两间都能发生反应．下列说法正确的是（ ）
| A． | W的最高价氧化物和SiO2都是两性氧化物 | |
| B． | 只含X、Y、Z三种元素的某水溶液一定呈酸性 | |
| C． | 由X、M与Z形成的化合物X2Z2和M2Z2中所含的化学键类型相同 | |
| D． | M的单质可用于从钛、锆等金属的氯化物中制备钛、锆等单质 |
）是一种重要的化工原料，在药物、新材料等方面有重要的应用，合成该有机物的一种路线如图：
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．
15．石墨烯的结构示意图如图所示，下列说法正确的是（ ）
| A． | 石墨烯与石墨互称为同位素 | |
| B． | 12 g石墨烯中约含有6.02×1023个电子 | |
| C． | 石墨烯中可能含有离子键 | |
| D． | 石墨烯中的碳原子间以共价键相结合 |
有X、Y、Z、W、P、Q六种前两周期的主族元素，原子序数依次增大，价电子数之和为26，原子半径依Y、Z、W、P、Q、X依次减小．围绕上述元素，回答下列问题：
，YQ3中心原子的杂化类型为sp2，Z与Q两元素第一电离能的大小关系：Z＜Q（填“＞”、“＜”或“=”）．
，其与水反应的化学方程式为NH4H+H2O=NH3•H2O+H2↑．
1．电子工业中，可用FeCl3-HCl溶液作为印刷电路铜板蚀刻液．某探究小组设计如下线路处理废液和资源回收：
请回答：
（1）FeCl3-HCl溶液蚀刻铜板后的废液中含有的金属阳离子是Fe3+、Fe2+和Cu2+．
（2）FeCl3蚀刻液中加入盐酸的目的：可以抑制氯化铁水解，又可提高蚀刻速率．
（3）步骤①中加入H2O2溶液的目的是因为将Fe2+氧化成Fe3+，方便后续沉淀时除去．
（4）已知：
生成氢氧化物沉淀的pH
根据表中数据推测调节pH的范围是3.2≤pH＜4.7．
（5）写出步骤②中生成CO2的一个离子方程式4H++Cu2（OH）2CO3 =3H2O+2 Cu2++CO2↑（已知Cu2（OH）2CO3不易溶于水）．
（6）写出步骤③生成Cu2（OH）2CO3的离子方程式2Cu2++4HCO3-=Cu2（OH）2CO3↓+H2O+3 CO2↑．
请回答：
（1）FeCl3-HCl溶液蚀刻铜板后的废液中含有的金属阳离子是Fe3+、Fe2+和Cu2+．
（2）FeCl3蚀刻液中加入盐酸的目的：可以抑制氯化铁水解，又可提高蚀刻速率．
（3）步骤①中加入H2O2溶液的目的是因为将Fe2+氧化成Fe3+，方便后续沉淀时除去．
（4）已知：
生成氢氧化物沉淀的pH
| Cu（OH）2 | Fe（OH）2 | Fe（OH）3 | |
| 开始沉淀时 | 4.7 | 7.0 | 1.9 |
| 沉淀完全时 | 6.7 | 9.0 | 3.2 |
（5）写出步骤②中生成CO2的一个离子方程式4H++Cu2（OH）2CO3 =3H2O+2 Cu2++CO2↑（已知Cu2（OH）2CO3不易溶于水）．
（6）写出步骤③生成Cu2（OH）2CO3的离子方程式2Cu2++4HCO3-=Cu2（OH）2CO3↓+H2O+3 CO2↑．