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【题目】高碘酸钾(KIO4)溶于热水,微溶于冷水和氢氧化钾溶液,可用作有机物的氧化剂。制备高碘酸钾的装置图如下(夹持和加热装置省略)。回答下列问题:

1)装置I中盛放浓盐酸的仪器名称是___________

2)装置I中浓盐酸与KMnO4混合后发生反应的离子方程式是___________

3)装置中的试剂X的作用___________

4)上述炭置按气流由左至右各接口顺序为___________(用字母表示)

5)装置连接好后,将装置水浴加热,通入氯气一段时间,冷却析岀高碘酸钾晶体,经过滤,洗涤,干燥等步骤得到产品。

写出装置中发生反应的化学方程式:___________

洗涤时,与选用热水相比,选用冷水洗涤晶体的优点是___________

上述制备的产品中含少量的KIO3,其他杂质忽略,现称取a g该产品配制成溶液,然后加入稍过量的用醋酸酸化的KI溶液,充分反应后,加入几滴淀粉溶液,然后用1.0mol·L1Na2S2O3标准溶液滴定至终点,消耗标准溶液的平均体积为b L

已知:KIO3+5KI+6CH3COOH===3I2+6CH3COOK+3H2OKIO4+7KI+8CH3 COOH===4I2+8CH3COOK+4H2OI2+2Na2S2O3===2NaI+N2S4O6则该产品中KIO4的百分含量是___________(Mr(KIO3)=214Mr(KIO4)=230,列出计算式)

【答案】分液漏斗 16H++10Cl-+2MnO4-=2Mn2++8H2O+5Cl2 处理尾气氯气 aefcdb 2KOH+KIO3+Cl2KIO4+2KCl+ H2O 降低KIO4的溶解度,减少晶体损失 100%

【解析】

装置I为氯气的发生装置,用于提供氯气来氧化碘酸钾制备高碘酸钾,装置I后接装置IV,用于除去挥发出的HCl气体,保证制备高碘酸钾的体系为碱性环境,而后接装置III,用于制备高碘酸钾,最后接装置II,用于处理尾气,装置II中应为NaOH溶液。

1)装置I中盛放浓盐酸的仪器名称是分液漏斗;

2)根据氧化还原反应得失电子守恒、电荷守恒、原子守恒,可写出装置I中浓盐酸与KMnO4混合后发生反应的离子方程式是16H++10Cl-+2MnO4-=2Mn2++8H2O+5Cl2

3)根据分析,装置中的试剂XNaOH,作用为尾气处理;

4)根据分析,以及气体进入反应装置应当长导管进、短导管出,可写出接口顺序为aefcdb

5)①根据氧化还原反应得失电子守恒、电荷守恒、原子守恒,可写出装置中发生反应的化学方程式为2KOH+KIO3+Cl2KIO4+2KCl+ H2O

②洗涤时,与选用热水相比,选用冷水洗涤晶体的优点是可以降低KIO4的溶解度,减少晶体损失;

③由题意可知滴定消耗的硫代硫酸钠的物质的量为b mol,所以碘单质的物质的量为0.5b mol,设样品中高碘酸钾的物质的量为x,碘酸钾的物质的量为y,解得,整理化简后可得该产品中KIO4的百分含量是100%

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