题目内容
【题目】光刻胶是大规模集成电路、印刷电路版和激光制版技术中的关键材料,某一光刻胶M的合成路线如下: (部分试剂、反应条件和产物已略去)
已知:
Ⅰ.(R1,R2为烃基或氢)
Ⅱ.(R1,R2为烃基)
(1)写出A的结构简式______,B分子中的含氧官能团的名称为_______________。
(2)写出B与银氨溶液发生反应的化学方程式____________________________________。
(3)下列有关光刻胶M的说法正确的是______________________(填字母序号)。
a.可稳定存在于碱性溶液中
b.化学式为C11H10O2
c.可发生氧化反应、还原反应、取代反应
d. 1mol该物质与足量H2发生加成反应时可消耗4mol H2
(4)乙炔和羧酸X发生加成反应生成E,E的核磁共振氢谱有三组峰,且峰面积比为3:2:1, E能使溴水褪色且能发生水解反应,则F的结构简式为________________________。
(5)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体还有______种(不考虑立体异构);C的另一种同分异构体满足下列条件:①能发生银镜反应和水解反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应②苯环上的一氯取代产物只有两种,写出该同分异构体的结构简式:_________。
(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图_______________________(无机试剂任意选用),合成路线流程图示例如下: CH3CH2Br CH3CH2OH
CH3COOCH2CH3
【答案】 醛基
c
4 ,
CH3CHO
CH3CH=CHCHO CH3CH=CHCOOH
CH3CH2CH2COOH。
【解析】
试题根据D,可以反推出A为,B为
,C为
,羧酸X为CH3COOH,E为
,F为
,根据此分析进行解答。
(1)A是苯甲醛,A的结构简式,B为
,含氧官能团为醛基。
故答案为 醛基
(2)已知B为,和银氨溶液发生化学反应为:
故答案为
(3)D与G生成光刻胶,结合信息Ⅱ,光刻胶的结构简式为,
A.酯基会与碱溶液发生反应,故A选项错误。
B.光刻胶为聚合物,其单体的化学式是C11H10O2,故B选项错误。
C.由该化合物的结构简式可知,化合物含有C=C和酯基,可以发生氧化反应、还原反应、取代反应,故C选项正确。
D.C=C及苯环均与氢气发生加成反应,则1mol该物质可消耗4nmolH2,故D选项错误。
故答案选C
(4)根据分析可得E的核磁共振氢谱有三组峰,且峰面积比为3:2:1, E能使溴水褪色且能发生水解反应,故E中含有碳碳双键与酯基,E为,F为
。
故答案为
(5)C为含有相同官能团且含有苯环结构,有乙烯基与羧基在苯环邻位、间位、对位三种和羧基位于乙烯基另外一个碳原子上,共四种同分异构体。能发生银镜反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应,说明HCOO-直接与苯环相连;②苯环上的一氯取代产物只有两种,说明苯环有2个对位上的取代基。符合条件的C的同分异构体的结构简式是
。
故答案为 4
(6)2分子CH3CHO合成CH3CH=CHCHO,CH3CH=CHCHO氧化为CH3CH=CHCOOH,CH3CH=CHCOOH与氢气发生加成反应生成CH3CH2CH2COOH,合成路线是
故答案为
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