题目内容

【题目】光刻胶是大规模集成电路、印刷电路版和激光制版技术中的关键材料,某一光刻胶M的合成路线如下: (部分试剂、反应条件和产物已略去)

已知:

(R1R2为烃基或氢)

(R1R2为烃基)

1)写出A的结构简式______B分子中的含氧官能团的名称为_______________

2)写出B与银氨溶液发生反应的化学方程式____________________________________

3)下列有关光刻胶M的说法正确的是______________________(填字母序号)。

a.可稳定存在于碱性溶液中

b.化学式为C11H10O2

c.可发生氧化反应、还原反应、取代反应

d. 1mol该物质与足量H2发生加成反应时可消耗4mol H2

4)乙炔和羧酸X发生加成反应生成EE的核磁共振氢谱有三组峰,且峰面积比为3:2:1 E能使溴水褪色且能发生水解反应,则F的结构简式为________________________

5)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体还有______种(不考虑立体异构);C的另一种同分异构体满足下列条件:①能发生银镜反应和水解反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应苯环上的一氯取代产物只有两种,写出该同分异构体的结构简式:_________

6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图_______________________(无机试剂任意选用),合成路线流程图示例如下: CH3CH2Br CH3CH2OHCH3COOCH2CH3

【答案】 醛基 c 4 , CH3CHOCH3CH=CHCHO CH3CH=CHCOOHCH3CH2CH2COOH

【解析】

试题根据D,可以反推出ABC,羧酸XCH3COOHEF,根据此分析进行解答。

1A是苯甲醛,A的结构简式B,含氧官能团为醛基。

故答案为 醛基

2)已知B,和银氨溶液发生化学反应为:

故答案为

3DG生成光刻胶,结合信息Ⅱ,光刻胶的结构简式为

A.酯基会与碱溶液发生反应,故A选项错误。

B.光刻胶为聚合物,其单体的化学式是C11H10O2,故B选项错误。

C.由该化合物的结构简式可知,化合物含有C=C和酯基,可以发生氧化反应、还原反应、取代反应,故C选项正确。

DC=C及苯环均与氢气发生加成反应,则1mol该物质可消耗4nmolH2,故D选项错误。

故答案选C

4)根据分析可得E的核磁共振氢谱有三组峰,且峰面积比为3:2:1 E能使溴水褪色且能发生水解反应,故E中含有碳碳双键与酯基,EF

故答案为

5C含有相同官能团且含有苯环结构,有乙烯基与羧基在苯环邻位、间位、对位三种和羧基位于乙烯基另外一个碳原子上,共四种同分异构体。能发生银镜反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应,说明HCOO-直接与苯环相连;②苯环上的一氯取代产物只有两种,说明苯环有2个对位上的取代基。符合条件的C的同分异构体的结构简式是

故答案为 4

62分子CH3CHO合成CH3CH=CHCHOCH3CH=CHCHO氧化为CH3CH=CHCOOHCH3CH=CHCOOH与氢气发生加成反应生成CH3CH2CH2COOH,合成路线是

故答案为

练习册系列答案
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4NH3(g)+3O2(g) =2N2(g)+6H2O(l) △H2=-1531KJ/mol

△H=__________

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时间/min

0

2

4

6

8

10

物质的量分数

50.0%

40.25%

32.0%

26.2%

24.0%

24.0%

则该温度下反应的平衡常数K=____

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CO2(g)+3H2(g)CH3OH(g)+H2O(g) △H=__________kJmol-1

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