题目内容

19.25℃时,浓度均为0.2mol/L的NaHCO3和Na2CO3溶液中,下列判断正确的是(  )
A.二者溶液中的pH前者大
B.后者仅存在水解平衡,不存在电离平衡
C.两溶液中均存在c(Na+)+c(H+)=c(HCO${\;}_{3}^{-}$)+2c(CO${\;}_{3}^{2-}$)+c(OH-
D.分别加入NaOH固体,恢复到原温度,c(CO${\;}_{3}^{2-}$)前者增大后者减小

分析 A.CO32-的水解程度大于HCO3-水解程度;
B.所有溶液中都存在水的电离平衡;
C.根据电荷守恒分析;
D.碳酸氢根离子和氢氧根离子发生反应,氢氧根离子离子抑制碳酸根离子的水解.

解答 解:A.CO32-的水解程度大于HCO3-水解程度,二者水解均显碱性,根据水解规律:谁强显谁性,所以NaHCO3溶液中的氢氧根浓度小于Na2CO3中的氢氧根浓度,即pH后者大,故A错误;
B.NaHCO3溶液中存在的电离HCO3-和水解平衡、水的电离平衡,Na2CO3溶液中存在CO32-的水解平衡和水的电离平衡,故B错误;
C.两溶液中均存在电荷守恒:c(OH-)+2c(CO32-)+c(HCO3-)=c(Na+)+c(H+),故C正确;
D.分别加入NaOH固体,恢复到原温度,碳酸氢根和氢氧根在溶液反应会生成碳酸根和水,氢氧根对它们的水解均起到抑制作用,所以c(CO32-)均增大,故D错误;
故选C.

点评 本题考查盐的水解的应用,明确水解原理及盐类水解规律的应用是解题的关键,难度不大.

练习册系列答案
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9.以沉淀法除去工业级偏钒酸铵(NH4VO3)中硅、磷元素杂质的流程如图1:

(1)碱熔时,下列措施有利于NH3逸出的是ac.
a.升温               b. 加压              c.增大NaOH溶液浓度
(2)滤渣主要成分为Mg3(PO42、MgSiO3,已知Ksp[Mg3(PO42]=6.4×10-26,Ksp(MgSiO3)=2.3×10-5.若滤液中c(PO${\;}_{4}^{3-}$)≤10-6 mol•L-1,则c(Mg2+)至少为4×10-5mol•L-1
(3)由图可知,加入一定量的MgSO4溶液作沉淀剂.随着温度升高,除磷率下降,其原因是Mg3(PO42溶解度增大、升温促进Mg2+水解生成Mg(OH)2;随着温度升高,除硅率增大,其原因是SiO32-+2H2OH2SiO3↓+2OH-(或者SiO32-+3H2OH4SiO4↓+2OH-)(用离子方程式表示).
(4)沉钒时,反应温度需控制在50℃,在实验室可采取的措施为50℃水浴加热.在此温度和pH=8的最佳条件下,探究NH4Cl的浓度对沉钒率的影响,设计实验步骤(常见试剂任选):取两份10mL一定浓度的滤液A和B,分别加入1mL和 10mL的1mol•L-1NH4Cl溶液,向向A中加入约9mL蒸馏水,使两份溶液总体积相等,控制两份溶液温度均为50℃、pH均为8,由专用仪器测定沉钒率.(忽略混合过程中溶液体积的变化)
(5)高纯的偏钒酸铵灼烧可制备新型光电材料V2O5,该反应的化学方程式为2NH4VO3$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$V2O5+2NH3↑+H2O.

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