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7.V L含有(NH42SO4和K2SO4的混合溶液,已知NH4+浓度为amol•L-1,SO42-浓度为bmol•L-1.则原混合溶液中钾离子的物质的量浓度为(  )
A.(b-2a)bmol•L-1B.$\frac{(b-2a)}{2}$bmol•L-1C.(2b-a)bmol•L-1D.$\frac{(2b-a)}{2}$bmol•L-1

分析 根据溶液电荷守恒,溶液中c(K+)+c(NH4+)=2c(SO42-),据此计算.

解答 解:溶液中NH4+的物质的量浓度为amol•L-1,SO42-的物质的量浓度为bmol•L-1,根据溶液电荷守恒,溶液中c(K+)+c(NH4+)=2c(SO42-),所以c(K+)+amol•L-1=2×bmol•L-1,解得c(K+)=(2b-a)mol•L-1
故选:C.

点评 考查混合溶液中离子物质的量浓度的计算,难度不大,注意溶液中离子浓度计算中电荷守恒的运用.

练习册系列答案
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18.选用适当的催化剂是改变反应速率常用的有效方法之一.某实验小组以H2O2分解为例,探究Fe3+和Cu2+对H2O2分解的催化效果.
仪器任选.限选试剂:5% H2O2溶液、胆矾晶体、0.05mol/L Fe2(SO43溶液、0.1mol/L Fe2(SO43溶液、0.1mol/L Na2SO4溶液、蒸馏水.
Ⅰ.配制100mL 0.1 mol/LCuSO4溶液
(1)需用托盘天平称取2.5g胆矾晶体,溶解胆矾晶体时需要的玻璃仪器是烧杯和玻璃棒.
(2)如图是实验小组配制100mL 0.1mol/LCuSO4溶液过程中定容操作的示意图,该操作的错误之处未用胶头滴管定容、定容时应平视液面.

(3)若其他操作均正确,按照图示观察方法定容,所配溶液浓度偏高.(填“偏高”或“偏低”)


Ⅱ.探究Fe3+和Cu2+对H2O2分解的催化效果
实验小组用右下图所示装置,选取相关试剂,设计并进行以下实验.忽略其他因素的影响,实验中相关数据记录如下表:
实验序号5% H2O2溶液的体积(mL)选用试剂选用试剂体积(mL)收集V mL O2所需时间(min)
10 蒸馏水5 m
10 0.1mol/L CuSO4v1 n
10 试剂M5p
10 0.1mol/L Na2SO45 m

(4)除上述装置中的仪器及量筒外,还要用到的计量工具是秒表.为确保实验的准确性,实验前需检查该装置的气密性,操作是关闭分液漏斗活塞,向右端滴定管中加水,如果一段时间后,滴定管中液面不再下降,说明气密性良好..
(5)实验①④的主要目的是排除SO42-对双氧水分解速率的影响.
(6)实验②中选用试剂的体积v1=5mL.
(7)实验③中选用的试剂M是0.05mol/LFe2(SO43溶液;若正确选用试剂进行实验,测得收集V mL O2所需时间m>n>p,由此得出的实验结论是Fe3+和Cu2+对H2O2分解均有催化作用,但Fe3+的催化效果更好.
5.硅是信息产业、太阳能电池光电转化的基础材料.锌还原四氯化硅是一种有着良好应用前景的制备硅的方法,该制备过程示意如下:

(1)焦炭在过程Ⅰ中作还原剂.
(2)过程Ⅱ中的Cl2用电解饱和食盐水制备,制备Cl2的化学方程式是2NaCl+2H2O$\frac{\underline{\;通电\;}}{\;}$2NaOH+Cl2↑+H2↑.
(3)整个制备过程必须严格控制无水.
①SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸,反应的化学方程式是SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl.
②干燥Cl2时,从有利于充分干燥和操作安全的角度考虑,需将约90℃的潮湿氯气先冷却至12℃,然后再通入到浓H2SO4中.冷却的作用是使水蒸气冷凝减少进入浓硫酸的水量保持持续的吸水性并降低放出的热量.
(4)Zn还原SiCl4的反应如下:
反应1:400℃~756℃,SiCl4(g)+2Zn(l) Si(s)+2ZnCl2(l)△H1<0
反应2:756℃~907℃,SiCl4(g)+2Zn(l) Si(s)+2ZnCl2(g)△H2<0
反应3:907℃~1410℃,SiCl4(g)+2Zn(g) Si(s)+2ZnCl2(g)△H3<0
①对于上述三个反应,下列说法合理的是bcd.
a.升高温度会提高SiCl4的转化率      b.还原过程需在无氧的气氛中进行
c.增大压强能提高反应的速率         d.Na、Mg可以代替Zn还原SiCl4
②实际制备过程选择“反应3”,选择的理由是温度高反应速率快;与前两个反应比较更易于使硅分离使化学平衡向右移动提高转化率.
③已知Zn(l)═Zn(g)△H=+116KJ/mol.若SiCl4的转化率均为90%,每投入1mol SiCl4,“反应3”比“反应2”多放出208.8kJ的热量.
(5)用硅制作太阳能电池时,为减弱光在硅表面的反射,采用化学腐蚀法在其表面形成粗糙的多孔硅层.腐蚀剂常用稀HNO3和HF的混合液.硅表面首先形成SiO2,最后转化为H2SiF6.用化学方程式表示SiO2转化为H2SiF6的过程SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O.

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