题目内容

1.下表列出了除去物质中所含少量杂质的方法,其中正确的是(  )
物质所含杂质除去杂质的方法
A CO气体CO2通过足量氢氧化钠溶液,并干燥
BNaOH溶液Na2CO3加入足量稀盐酸至不再产生气泡
CCaO固体CaCO3加水溶解,过滤
DFeSO4溶液CuSO4加入足量锌粒,充分反应,过滤
A.AB.BC.CD.D

分析 A.二氧化碳与NaOH溶液反应,而CO不能;
B.二者均与稀盐酸反应;
C.CaO与水反应;
D.二者均与Zn反应.

解答 解:A.二氧化碳与NaOH溶液反应,而CO不能,则通过足量氢氧化钠溶液,并干燥可除杂,故A正确;
B.二者均与稀盐酸反应,不能除杂,应选氢氧化钙除杂,故B错误;
C.CaO与水反应,不能除杂,应高温分解除杂,故C错误;
D.二者均与Zn反应,不能除杂,应选足量铁粉,故D错误;
故选A.

点评 本题考查混合物的分离提纯,为高频考点,侧重于学生的分析能力和实验能力的考查,题目难度不大,做题时注意把握物质的性质、发生的反应和分离的原理.

练习册系列答案
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11.单晶硅是信息产业中重要的基础材料.工业上可用焦炭与二氧化硅的混合物在高温下与氯气反应生成SiCl4和CO,SiCl4经提纯后用氢气还原得高纯硅.如图是实验室制备SiCl4的装置示意图.

已知SiCl4的熔点为-70.0℃,沸点为57.7℃,且遇水易反应,
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:MnO2+4H++2Cl- $\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$Mn2++2H2O+Cl2
(2)装置B中的试剂是饱和食盐水;装置C的作用为干燥氯气
(3)装置D的玻璃管中发生主要反应的化学方程式是SiO2+2C+2Cl2$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$SiCl4+2CO,装置F的作用为防止F右端的水蒸气进入E与四氯化硅反应,造成产物不纯.
(4)G中吸收气体一段时间后,吸收液中肯定存在OH-、Cl-和SO42-.为探究该吸收液中可能存在的其它酸根离子(忽略空气中CO2的影响),研究小组实验设计如下
【提出假设】假设1:只有SO32-:假设2:既无SO32-也无ClO-;假设3:只有ClO-
【设计方案,进行试验】可供选择的实验试剂有:3mol/L H2SO4溶液、1mol/L NaOH溶液、品红溶液、0.01mol/L KMnO4溶液、淀粉-KI溶液.各取少量吸收液于a、b、c三支试管中,分别滴加3mol/L H2SO4酸化后,进行下列实验:
请完成如表:
序号操作可能出现的现象结论
向a试管中滴加几滴0.01mol/L的KMnO4若溶液褪色则假设1成立
若溶液不褪色则假设2或3成立
向b试管中滴加几滴品红若溶液褪色则假设1或3成立
若溶液不褪色则假设2成立
向c试管中滴加几滴淀粉-KI溶液则假设3成立

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