题目内容
【题目】常温下，某浓度H2A溶液中滴加NaOH溶液，若定义pC=﹣lgC，则测得pC（H2A）、pC（HA-）、pC（A2-）变化如图所示。下列说法正确的是（ ）
A.曲线II表示pC（HA-）随pH的变化
B.常温下，
=104.50
C.将等浓度等体积的Na2A与H2A溶液混合后，溶液显碱性
D.a、b、c三点对应的溶液，c(HA-)+c(A2-)+c(HA)始终不变
【答案】B
【解析】
（1）Pc随着pH的变化而变化，说明溶液中存在
和
，H2A是一元弱酸；
（2）pH越大，c(H+)越小，平衡右移程度越大，c(A2-)越大，pc(A2-)越小，所以Ⅲ是pc(A2-)，pH越小，c(H+)越大，平衡左移程度越大，c(H2A)越大，pc(H2A)越小，所以Ⅱ是pc(H2A)和pH的关系曲线，Ⅰ是pc(HA-)和pH的关系曲线；
（3）Ka1=
，用a点计算Ka1=c(H+)=10-0.8，Ka2=
,用c点计算Ka2=c(H+)=10-5.3。
A．由分析可知，曲线II表示pc(H2A)随pH的变化，A错；
B．Ka1==，Ka2=，
=
=
=104.50，B正确；
C．
，用b点计算Kh1=
=10-3.05，由分析可知Ka1=10-0.8，所以Ka1＞Kh1，所以将等浓度等体积的Na2A与H2A溶液混合后，溶液显酸性，C错误；
D．根据物料守恒，a、b、c三点对应的溶液，n(H2A)+n(HA﹣)+n(A2﹣)始终不变，但溶液体积改变，所以浓度之和发生改变，D错误。
答案选B。
【题目】氧化铝陶瓷常用于厚膜集成电路，制备氧化铝陶瓷的合成路线如图所示，回答下列问题。
（1）“氧化”步骤发生的离子方程式为：___，使用双氧水作氧化剂优点为___：
（2）“热分解”得到的产物除了氧化铝外，还有NH3、N2、SO2、SO3、H2O生成，则氧化产物和还原产物的物质的量之比为___。
（3）铵明矾晶体的化学式为NH4Al(SO4)2·12H2O，“热分解”步骤中，其各温度段内受热“失重计算值”（失重计算值%=
×100%）如表所示：
温度区间（℃） | 18→190 | 190→430 | 430→505 | 505→900 |
失重计算值（%） | 39.20 | 7.80 | 13.00 | 26.00 |
通过上述数据经粗略计算可判断，在温度区间___铵明矾基本上失去了全部结晶水。
（4）“结晶”步骤中常采用的操作是___。
（5）合成过程中常使用过量的工业硫酸铵，可利用硫酸铵溶液水解显酸性抑制硫酸铝水解，另外的一个重要作用是___。
（6）通常认为金属离子浓度等于1×10-5mol/L即可认为沉淀完全，试计算常温下“中和”步骤中需要调节溶液pH=___（保留一位小数，已知：Ksp[Fe(OH)3]=8.0×10－38，lg5=0.7）。
