题目内容

图1是氯碱工业中离子交换膜电解槽示意图,其中离子交换膜是“阳离子交换膜”,它有一特殊的性质——只允许阳离子通过而阻止阴离子和气体通过。

⑴、工业食盐含Ca2+、Mg2+等杂质。精制过程发生反应的离子方程式为 ▲  ▲ 
⑵、如果粗盐中SO含量较高,必须添加钡式剂除去SO,该钡试剂可以是 ▲ 
A.Ba(OH)2       B.Ba(NO3)2      C.BaCl2 
⑶、为有效除去Ca2+、Mg2+、SO42-,加入试剂的合理顺序为 ▲ 
A.先加NaOH,后加Na2CO3,再加钡试剂 
B.先加NaOH,后加钡试剂,再加Na2CO3   
C.先加钡试剂,后加NaOH,再加Na2CO3
⑷、电解后得到的氢氧化钠溶液从 ▲ 口流出,b口排出的是 ▲ 气体,电极1应连接电源的
 ▲ 极(填“正”或“负”极);理论上讲,从f口加入纯水即可,但实际生产中,纯水中要加入一定量的NaOH溶液,其原因是 ▲ 
⑸、图2是根据氯碱工业中离子交换膜技术原理,设计的电解Na2SO4溶液生产NaOH和H2SO4溶液的装置。请回答:
①、a为 ▲ (填“阳”、“阴”)离子交换膜。
②、阳极的电极反应式是 ▲ 
③、从D、E口流出或流进的物质的化学式分别为 ▲  ▲ 
⑴、Ca2++CO=CaCO3↓  Mg2++2OH-=Mg(OH)2
⑵、A C 
⑶、B C
⑷、d; Cl2; 正; 增强溶液的导电性,又不影响NaOH纯度。
⑸、①、阴;  ②、4OH4e- ="=" 2H2O + O2↑  ③、NaOH ,H2O(加少量稀硫酸)。
练习册系列答案
相关题目
(12分)合成氨工业对国民经济和社会发展具有重要的意义。其原理为:
N2(g)+3H2(g)  2NH3(g) H=" -92.4KJ/mol  " ,据此回答以下问题:
(1)下列有关该反应速率的叙述,正确的是(选填序号)           
a.升高温度可以增大活化分子百分数,加快反应速率
b.增大压强不能增大活化分子百分数,所以不可以加快反应速率
c.使用催化剂可以使反应物分子平均能量升高,加快反应速率
d.在质量一定的情况下,催化剂颗粒的表面积大小,对反应速率有显著影响
(2)①该反应的化学平衡常数表达式为K=_______________________。
②根据温度对化学平衡的影响规律可知,对于该反应,温度越高,其平衡常数的值越_____ 。
(3)某温度下,若把10 mol N2与30 mol H2置于体积为10 L的密闭容器内,反应达到平衡状态时,测得平衡混合气体中氨的体积分数为20%,则该温度下反应的K=___________(可用分数表示)。能说明该反应达到化学平衡状态的是               (填字母)。
a.容器内的密度保持不变               b.容器内压强保持不变    
c.υ(N2)=2υ(NH3)             d.混合气体中c(NH3)不变
(4)对于合成氨反应而言,下列有关图象一定正确的是(选填序号)_____________。

(5)相同温度下,有恒容密闭容器A和恒压密闭容器B,两容器中均充入1mol N2和3 molH2,此时两容器的体积相等。在一定条件下反应达到平衡状态,A中NH3的体积分数为a,放出热量Q1 kJ;
B中NH3的体积分数为b,放出热量Q2 kJ。则:a_____b(填>、=、<), Q1_____ Q2(填>、=、<), Q1_____92.4(填>、=、<)。
(8分)江苏连云港开发硅产业比较发达,粗硅提纯经常用“三氯氢硅法”。将干燥的硅粉加入合成炉中,与通入的干燥氯化氢气体在280~330℃有氯化亚铜催化剂存在下进行氯化反应,反应气体旋风分离除去杂质,再用氯化钙冷冻盐水将气态三氯氢硅冷凝成液体,经粗馏塔蒸馏和冷凝,除去高沸物和低沸物,再经精馏塔蒸馏和冷凝,得到精制三氯氢硅液体。纯度达到七个“9”以上,杂质含量小于1×107,硼要求在0.5×109以下。提纯后的三氯氢硅送入不锈钢制的还原炉内,用超纯氢气作还原剂,在1050~1100℃还原成硅,并以硅芯棒为载体沉积而得多晶硅成品。其反应式如下:
Ⅰ H2+Cl2 =" 2HCl"
Ⅱ Si(粗)+3HClg= SiHCl3(l)+H2(g)
Ⅲ SiHCl3(l) +H2(g) = Si()+3HCl(g)

据以上材料回答问题:
(1)电炉中发生反应后排出气体X的成份      (填化学式)。
(2)目前提倡“低碳类经济”,CO2的吸收转化成有机物可有效实现碳循环,是节能减排的有效措施。某物质y的核磁共振氢谱只有一个峰,与CO2可催化加聚生成自然降解的
塑料聚碳酸酯,其反应方程式 则Y的结构简式为           
(3)在上述流程中可以循环使用的物质是        。(填名称)
(4)SiH4化学性质比较活泼,它在空气中自燃,有强还原性,在碱存在下迅速水解,由SiH4为原料进行氮化来制备Si3N4纳米材料,则你认为该材料中最大可能存在的杂质   
(填化学式)。
(5)已知化学键如表

则下述反应 SiCl4(g)+2H2gSis+4HCl(g) 
该反应的反应热 △H=        kJ·mol1

违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com

精英家教网