摘要:⑹由甲苯与氯气在光照条件下反应生成.甲苯在工业上可通过下列流程获
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工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯
(一种常见的化妆品防霉剂),其生产过程如图(反应条件没有全部注明):

根据上述合成路线回答:
(1)反应①的试剂和条件是
a.氯气、光照 b.液溴、催化剂
有机物B的结构简式是
.
(2)反应⑤的化学方程式为:
.
(3)反应④的反应类型是
a.取代反应 b.加成反应 c.消去反应 d.酯化反应 e.氧化反应
(4)上述四种化合物B、C、E、G中:
(5)由C物质制备
时,不可选用的试剂是(选填编号)
a.CH3COONa溶液 b.NaOH溶液 c.NaHCO3溶液 d.Na.
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根据上述合成路线回答:
(1)反应①的试剂和条件是
B
B
(填编号) a.氯气、光照 b.液溴、催化剂
有机物B的结构简式是
(2)反应⑤的化学方程式为:
(3)反应④的反应类型是
e
e
(填编号),反应⑥的反应类型是a
a
(填编号).a.取代反应 b.加成反应 c.消去反应 d.酯化反应 e.氧化反应
(4)上述四种化合物B、C、E、G中:
E
E
能与NaHCO3反应(不考虑酯的水解);C、G
C、G
能与过量浓溴水反应.在一定条件下,等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应,消耗NaOH的物质的量之比为2:1:1:2
2:1:1:2
.(5)由C物质制备
a、c
a、c
.a.CH3COONa溶液 b.NaOH溶液 c.NaHCO3溶液 d.Na.
下列变化中,由加成反应引起的是
A.甲烷与氯气在光照下反应
B.乙烯通入酸性高锰酸钾溶液中,高锰酸钾溶液褪色
C.一定条件下,苯滴入浓硝酸和浓硫酸的混合液中,有油状物生成
D.苯在一定温度、压强和催化剂的作用下和氢气反应,生成环己烷
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工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯
(一种常见的化妆品防霉剂),其生产过程如下图(反应条件没有全部注明):
根据上述合成路线回答:
(1)反应①的试剂和条件是______(填编号) a.氯气、光照 b.液溴、催化剂 有机物B的结构简式是____________________。
(2)反应⑤的化学方程式为:______________________________________________。
(3)反应④的反应类型是_____(填编号),反应⑥的反应类型是_____(填编号)。
a.取代反应 b.加成反应 c.消去反应 d.酯化反应 e.氧化反应
(4)上述四种化合物B、C、E、G中:_________能与NaHCO3反应(不考虑酯的水解); _________能与过量浓溴水反应。在一定条件下,等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应,消耗NaOH的物质的量之比为______________。
(5)由C物质制备
时,不可选用的试剂是(选填编号)___________。
a.CH3COONa溶液 b.NaOH溶液 c.NaHCO3溶液 d.Na
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工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯
(一种常见的化妆品防霉剂),其生产过程如图(反应条件没有全部注明):

根据上述合成路线回答:
(1)反应①的试剂和条件是 (填编号)
a.氯气、光照 b.液溴、催化剂
有机物B的结构简式是 .
(2)反应⑤的化学方程式为: .
(3)反应④的反应类型是 (填编号),反应⑥的反应类型是 (填编号).
a.取代反应 b.加成反应 c.消去反应 d.酯化反应 e.氧化反应
(4)上述四种化合物B、C、E、G中: 能与NaHCO3反应(不考虑酯的水解); 能与过量浓溴水反应.在一定条件下,等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应,消耗NaOH的物质的量之比为 .
(5)由C物质制备
时,不可选用的试剂是(选填编号) .
a.CH3COONa溶液 b.NaOH溶液 c.NaHCO3溶液 d.Na. 查看习题详情和答案>>
根据上述合成路线回答:
(1)反应①的试剂和条件是 (填编号)
a.氯气、光照 b.液溴、催化剂
有机物B的结构简式是 .
(2)反应⑤的化学方程式为: .
(3)反应④的反应类型是 (填编号),反应⑥的反应类型是 (填编号).
a.取代反应 b.加成反应 c.消去反应 d.酯化反应 e.氧化反应
(4)上述四种化合物B、C、E、G中: 能与NaHCO3反应(不考虑酯的水解); 能与过量浓溴水反应.在一定条件下,等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应,消耗NaOH的物质的量之比为 .
(5)由C物质制备
a.CH3COONa溶液 b.NaOH溶液 c.NaHCO3溶液 d.Na. 查看习题详情和答案>>