。请根据下图完成下列问题：

（1）E中含有的官能团的名称是_____________；③的反应类型是_____________，C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程式为________________________________________。

（2）已知B的相对分子质量为162，其燃烧产物中n(CO₂)∶n(H₂O)=2∶1。则B的分子式为_______________，F的分子式为_______________。

（3）在电脑芯片生产领域，高分子光阻剂是光刻蚀0.11 μm线宽芯片的关键技术。F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料。F具有如下特点：①能跟FeCl₃溶液发生显色反应；②能发生加聚反应；③芳环上的一氯代物只有两种。F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为____________________________________________________________。

（4）化合物G是F的同分异构体，它属于芳香族化合物，能发生银镜反应。G可能有____________种结构，写出其中任一种同分异构体的结构简式_________________________。

请根据下图回答：

（1）E中含有的官能团的名称是_____________；反应③的化学方程式为_____________。

（2）已知B的相对分子质量为162，其完全燃烧的产物中n(CO₂)∶n(H₂O)=2∶1，则B的分子式为_________________。

（3）F是高分子光阻剂生产中的主要原料。F具有如下特点：①能跟FeCl₃溶液发生显色反应；②能发生加聚反应；③苯环上的一氯代物只有两种。F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为_________________。

（4）化合物G是 F的同分异构体，属于芳香族化合物，能发生银镜反应。G有多种结构，写出其中两种环上取代基个数不同的同分异构体的结构简式_________________。

，请根据下图回答：

(1)E中的官能团的名称是__________；反应③的类型是__________。

(2)已知B的相对分子质量为162，其燃烧产物中n(CO₂)：n(H₂O)=2：1，则B的分子式为_________，F的分子式为_________。

(3)F是制造电脑芯片中高分子光阻剂的主要原料，F具有的特点是：①能跟FeCl₃溶液发生显色反应；②能发生加聚反应；③苯环上的一氯代物只有两种。F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为

____________________________________________________________________

____________________________________________________________________。

(4)化合物G是F的同分异构体，它属于芳香族化合物，能发生银镜反应。G可能有_________种结构，写出苯环上一氯代物有三种的同分异构体的结构简式：___________________________。

，根据下图回答下列问题(图中A、B、C、D、E各代表一种有机物)：

(1)C的结构简式为____________；D中官能团的名称是____________。

(2)已知A中只含C、H、O三种元素，其质量比为60∶5∶16；A的蒸气密度是同温同压下H₂密度的81倍，则A的分子式为____________。

(3)在电脑芯片生产中，高分子光阻剂是光刻蚀0.11μm线宽芯片的关键物质。E是生产这种高分子光阻剂的主要原料。E具有如下特点：①羟基直接与苯环相连；②苯环上的一氯取代物只有两种；③能发生加聚反应。E的结构简式为____________，E在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为____________________________________。

(4)芳香族化合物F与C具有相同官能团，与E互为同分异构体，请写出F的各种可能的结构简式______________________________。