【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料.通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450﹣500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅.以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.
查阅相关资料获悉:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

315

熔点/℃

﹣70.0

升华温度/℃

180

300

162

请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式
(2)装置A中g管的作用是;装置C中的试剂是;装置E中的h瓶需要冷却理由是
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,含有铁、铝等元素的杂质.为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+ , 再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原反应滴定,锰元素被还原为Mn2+ . ①写出用KMnO4滴定Fe2+的离子方程式:
②滴定前是否要滴加指示剂?(填“是”或“否”),判断滴定终点的方法是
③某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml试样溶液,用1.000×102molL1KMnO4标准溶液滴定.达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 . 若滴定前平视,滴定后俯视KMnO4液面,对测定结果有何影响(填“偏高”、“偏低”、或“无影响”)

 0  188491  188499  188505  188509  188515  188517  188521  188527  188529  188535  188541  188545  188547  188551  188557  188559  188565  188569  188571  188575  188577  188581  188583  188585  188586  188587  188589  188590  188591  188593  188595  188599  188601  188605  188607  188611  188617  188619  188625  188629  188631  188635  188641  188647  188649  188655  188659  188661  188667  188671  188677  188685  203614 

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