题目内容
工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图：
（1）石英砂的主要成分是 （填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是 。
（2）制备三氯氢硅的反应：
Si（s）+3HCl（g）
SiHCl3（g）+H2（g） 
伴随的副反应为：
Si（s）+4HCl（g）SiCl4（g）+2H2（g） 
已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体，工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法
为 ；
写出SiHCl3（g）和HCl反应生成SiCl4（g）和H2的热化学方程式 。
（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是 。
（4）实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是 （填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是 。
②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是 ，装置D中发生反应的化学方程式为 。
（1）石英砂的主要成分是 （填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是 。
（2）制备三氯氢硅的反应：
Si（s）+3HCl（g）
SiHCl3（g）+H2（g） 
伴随的副反应为：
Si（s）+4HCl（g）
SiCl4（g）+2H2（g） 
已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体，工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法
为 ；
写出SiHCl3（g）和HCl反应生成SiCl4（g）和H2的热化学方程式 。
（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是 。
（4）实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是 （填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是 。
②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是 ，装置D中发生反应的化学方程式为 。
（1）
（1分） 还原剂（1分）
（2）蒸馏，（2分）
（2分）
（3）HCl和
（2分）
（4）①浓硫酸，（1分）使进入烧瓶的液态
变为气体。（1分）②让
排尽装置中的空气；（2分）
（2分）
（1分） 还原剂（1分）（2）蒸馏，（2分）
（2分）（3）HCl和
（2分）（4）①浓硫酸，（1分）使进入烧瓶的液态
变为气体。（1分）②让
排尽装置中的空气；（2分）
（2分）略
练习册系列答案
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