题目内容
7．下列元素属于第IA族的是（ ）| A． | 硅 | B． | 碘 | C． | 硼 | D． | 铯 |
分析 主族元素族序数等于最外层电子数，由此分析解答．
解答 解：A、硅最外层只有4个电子，所以是ⅣA族元素，故A不选；
B、碘最外层只有7个电子，所以是ⅥⅠA族元素，故B不选；
C、硼最外层只有3个电子，所以是ⅢA族元素，故C不选；
D、铯最外层只有1个电子，所以是ⅠA族元素，故D选；
故选D．
点评 考查原子结构与性质关系、主族元素族序数等于最外层电子数，比较基础，注意理解结构与元素性质的关系．
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17．X、Y、Z、W、R是短周期主族元素，X原子最外层电子数是次外层的两倍，Y元素在地壳中的含量最多，Z元素的化合物的焰色反应呈黄色，W 元素的最高价氧化物的水化物不溶于水，但可溶于Z元素的最高价氧化物的水化物，R原子的核外电子数是X原子与Z原子的核外电子数之和．下列叙述正确的是（ ）
| A． | 原子半径的大小顺序r（X）＞r（Y）＞r（Z）＞r（R）＞r（W） | |
| B． | 氢气在R的单质中燃烧火焰呈蓝色 | |
| C． | 元素X的氢化物的稳定性比Y的弱 | |
| D． | Y与Z形成的两种化合物中的化学键类型均相同 |
18．下列说法不正确的是（ ）
| A． | 质谱和核磁共振不仅可用于有机小分子结构的分析，还可用于蛋白质结构的研究 | |
| B． | 储氢金属吸氢形成金属氢化物，改变条件释放吸收的氢气，是氢气贮存的重要途径 | |
| C． | 牺牲阳极的阴极保护法、外加电源的阳极保护法和改变金属组成或结构的方法都是 防止金属腐蚀的方法 | |
| D． | 乙醇与水互溶，这与乙醇和水分子之间能形成氢键有关 |
15．实验室用含Ca2+、Mg2+、Cl-的水制取纯水，可采用的方法是（ ）
| A． | 过滤 | B． | 蒸馏 | C． | 萃取 | D． | 分液 |
2．氨水中存在平衡：NH3•H2O?NH4++OH-，当其他条件不变时，改变下列条件，平衡向左移动的是（ ）
| A． | 通入HCl | B． | 加少量NH4Cl固体 | C． | 加少量NaCl固体 | D． | 通入氨气 |
12．
二甲醚汽车发动机具有显著的节能减排效果，其核心为燃料电池，该电池工作的原理示意图如图所示．下列有关说法错误的是（ ）
二甲醚汽车发动机具有显著的节能减排效果，其核心为燃料电池，该电池工作的原理示意图如图所示．下列有关说法错误的是（ ）| A． | 负极上的电极反应式CH3OCH3-12e-+3H2O═2CO2+12H+ | |
| B． | 工作过程中，H+移向正极 | |
| C． | 每消耗0.5molO2就有2mole-通过离子交换膜 | |
| D． | 电池总反应为2C2H6O═4CO2+6H2O |
19．NA为阿伏伽德罗常数．下列说法正确的是（ ）
| A． | 25℃时pH=13的NaOH溶液中含有OH-的数目为0.1NA | |
| B． | 常温常压下，8gO2含有4NA个电子 | |
| C． | 标准状况下，2024L乙醇含有0.1nA个CH3CH2OH分子 | |
| D． | KIO3+6HI=KI+3H2O+3I2，生产3molI2转移电子的总数为5NA |
14．晶体硅是信息科学和能源科学中的一种重要材料，可用于制芯片和太阳能电池等，．以下是工业上制取纯硅的一种方法．
已知：在一定条件下可发生反应：Si（s）+3HCl（g）?SiHCl3（g）+H2（g）△H＜0
I．反应②、③均需要加热，有如下两个温度区间分别供两反应选择，你认为反应②应选择a
（填序号字母），原因是因反应Si（s）+3HCl（g）?SiHCl3（g）+H2（g）△H＜0，温度较低时反应向正向进行程度较大，有利于SiHCl3的生成；
a.520～530K b.1350～1360K
II．现在实验室模拟工业上粗硅提纯的过程，已知SiHCl3遇水强烈水解，其他相关数据如下表所示：
（1）现用如图1装置进行模拟反应②的过程．实验室制HCl的反应原理为：
2NaCl（s）+H2SO4（浓）$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$ 2HCl↑+Na2SO4
如图2A中是HCl的发生装置，你认为应选择下列哪套装置？d（填装置的序号字母），装置D中碱石灰的作用为吸收剩余HCl、防止空气中的水蒸气进入C装置造成SiHCl3的水解；
（2）已知液态粗品SiHCl3中含有杂质SiCl4、AlCl3、FeCl3等，则流程中操作①为分馏（填操作名称），下列不是该操作所需的仪器是bd（填装置序号字母）；
a．冷凝管 b．圆底烧瓶 c．蒸馏烧瓶 d．分液漏斗 e．温度计 f．接受器
（3）用SiHCl3与H2反应制备纯硅的装置如土3
①按图示组装好仪器后，下列实验步骤的正确顺序为dbacef（填步骤的序号字母），
a．打开甲装置分液漏斗旋塞，滴加稀硫酸，反应生成H2；
b．向装置中添加药品；
c．打开丙装置分液漏斗的旋塞，滴加SiHCl3，并加热相应装置；
d．检查装置气密性；
e．停止向丙装置滴加SiHCl3，并停止加热相应装置；
f．停止通H2；
步骤c中需要加热的装置为丙、丁（填装置序号“甲”、“乙”、“丙”、“丁”）
②该套装置的设计缺陷是无尾气处理装置．
已知：在一定条件下可发生反应：Si（s）+3HCl（g）?SiHCl3（g）+H2（g）△H＜0
I．反应②、③均需要加热，有如下两个温度区间分别供两反应选择，你认为反应②应选择a
（填序号字母），原因是因反应Si（s）+3HCl（g）?SiHCl3（g）+H2（g）△H＜0，温度较低时反应向正向进行程度较大，有利于SiHCl3的生成；
a.520～530K b.1350～1360K
II．现在实验室模拟工业上粗硅提纯的过程，已知SiHCl3遇水强烈水解，其他相关数据如下表所示：
| 物质 | SiCl4 | SiHCl3 | AlCl3 | FeCl3 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 33.0 | - | 315 |
| 升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 |
2NaCl（s）+H2SO4（浓）$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$ 2HCl↑+Na2SO4
如图2A中是HCl的发生装置，你认为应选择下列哪套装置？d（填装置的序号字母），装置D中碱石灰的作用为吸收剩余HCl、防止空气中的水蒸气进入C装置造成SiHCl3的水解；
（2）已知液态粗品SiHCl3中含有杂质SiCl4、AlCl3、FeCl3等，则流程中操作①为分馏（填操作名称），下列不是该操作所需的仪器是bd（填装置序号字母）；
a．冷凝管 b．圆底烧瓶 c．蒸馏烧瓶 d．分液漏斗 e．温度计 f．接受器
（3）用SiHCl3与H2反应制备纯硅的装置如土3
①按图示组装好仪器后，下列实验步骤的正确顺序为dbacef（填步骤的序号字母），
a．打开甲装置分液漏斗旋塞，滴加稀硫酸，反应生成H2；
b．向装置中添加药品；
c．打开丙装置分液漏斗的旋塞，滴加SiHCl3，并加热相应装置；
d．检查装置气密性；
e．停止向丙装置滴加SiHCl3，并停止加热相应装置；
f．停止通H2；
步骤c中需要加热的装置为丙、丁（填装置序号“甲”、“乙”、“丙”、“丁”）
②该套装置的设计缺陷是无尾气处理装置．
15．
已知：CO2（g）+3H2（g）?CH5OH（g）+H2O（g）△H=-49.0kJ•mol-1一定条件下，向体积为1L的恒容密闭容器中充入1mol CO2和3mol H2，测得CO2（g）和CH3OH（g）的浓度随时间变化曲线如图所示，下列叙述中正确的是（ ）
已知：CO2（g）+3H2（g）?CH5OH（g）+H2O（g）△H=-49.0kJ•mol-1一定条件下，向体积为1L的恒容密闭容器中充入1mol CO2和3mol H2，测得CO2（g）和CH3OH（g）的浓度随时间变化曲线如图所示，下列叙述中正确的是（ ）| A． | 3min时，用CO2的浓度表示的正反应速率等于用CH3OH的浓度表示的逆反应速率 | |
| B． | 从反应开始到平衡，H2的平均反应速率v（H2）=0.225mol•L-1•min-1 | |
| C． | 13min时，向容器中充入2mol氦气，该反应的化学反应速率增大 | |
| D． | 13min时，向容器中充入2mol CO2，该反应化学平衡常数增大 |