题目内容


下列除去杂质的操作中,不能达到目的的是

A.除去苯中的少量溴:加入NaOH溶液后分液

B.除去乙烷中的少量乙烯:通入溴水中洗气

C.除去CO2中的少量HCl气体:通过盛有饱和NaHCO3溶液的洗气瓶

D.除去FeCl2溶液中的少量FeCl3:加入足量铜粉后过滤

练习册系列答案
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  硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础。回答下列问题:

(1)基态Si原子中,电子占据的能量最高的电子层的符号为        ,该电子层具有的原子轨道数为      

(2)硅主要以硅酸盐、        等化合物的形式存在于地壳中。

(3)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以             相结合,其晶胞平均拥有8个硅原子,其中在面心位置贡献         个原子。

(4)单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4,同时产生一种可使湿润的红色石蕊试纸变蓝的气体,该反应的化学方程式为                       。

(5)碳和硅的有关化学键键能如下所示,简要分析和解释下列有关事实:

①硅与碳同族,也有系列氢化物,但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多,原因是                

②SiH4的稳定性小于CH4,更易生成氧化物,原因是                                        

   (6)在硅酸盐中,四面体(如下图(a))通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图(b)为一种无限长单链结构的多硅酸根;其中Si与O的原子数之比为           化学式为              

 


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