题目内容
硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础。请回答下列问题:
(1)基态Si原子价电子排布图为 ,Si原子核外共有 个不同运动状态的电子。
(2)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以 相结合,其晶胞中共有8个原子,其中在面心位置贡献 个原子。
(3)单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4,该反应的化学方程式为 。
(4)在硅酸盐中,SiO4- 4四面体(如下图(a))通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图(b)为一种无限长单链结构的多硅酸根,其中Si原子的杂化形式为 ,Si与O的原子数之比为 ,化学式为 。
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(16分)(1)略 , 14
(2)共价键 , 3
(3)Mg2Si + 4NH4Cl = SiH4 + 4NH3 + 2MgCl2
(4)sp3 , 1∶3 , [SiO3]2n- n(或SiO2- 3)
根据部分短周期元素的原子半径及主要化合价信息,判断以下叙述正确的是
| 元素代号 | L | M | Q | R | T |
| 原子半径/nm | 0.160 | 0.143 | 0.112 | 0.104 | 0.066 |
| 主要化合价 | +2 | +3 | +2 | +6、—2 | —2 |
A.氢化物的沸点为H2T<H2R B.金属性强弱:L<Q
C.M与T形成的化合物的化学式是Al2O3 D.L2+与R2-的核外电子数相等
下列物质中的杂质(括号内为杂质)的检验、除杂的试剂或方法正确的是( )
| 物质及其杂质 | 检验 | 除杂 |
| A.Cl2(HCl) | 湿润的淀粉KI试纸 | 饱和食盐水 |
| B.NaHCO3溶液(Na2CO3) | Ca(OH)2溶液 | 过量CO2 |
| C.CO2(HCl) | AgNO3溶液(含稀硝酸) | 饱和Na2CO3溶液 |
| D. NO(NO2) | 观察颜色或湿润的淀粉KI试纸 | 水 |