题目内容

20.如图装置或操作错误的是(  )
A.用装置甲验证在该条件下铁钉发生吸氧腐蚀
B.装置乙用于HCl的吸收,以防倒吸
C.用装置丙验证实验室制得的乙烯中混有二氧化硫和二氧化碳
D.关闭活塞a,从b处加水,以检查装置丁的气密性

分析 A.水为中性,Fe发生吸氧腐蚀;
B.HCl易溶于水,倒置的烧瓶可防止倒吸;
C.乙烯、二氧化硫均能被高锰酸钾氧化,二氧化硫、二氧化碳均能使石灰水变浑浊;
D.关闭活塞a,从b处加水,U型管左右两侧出现液面差可检验气密性.

解答 解:A.水为中性,Fe发生吸氧腐蚀,则装置甲可验证在该条件下铁钉发生吸氧腐蚀,故A正确;
B.HCl易溶于水,倒置的烧瓶可防止倒吸,则装置乙用于HCl的吸收,以防倒吸,故B正确;
C.乙烯、二氧化硫均能被高锰酸钾氧化,二氧化硫、二氧化碳均能使石灰水变浑浊,则该装置不能验证实验室制得的乙烯中混有二氧化硫和二氧化碳,应选通过品红检验二氧化硫,再通过高锰酸钾,最后利用石灰水检验二氧化碳,故C错误;
D.关闭活塞a,从b处加水,若U型管左右两侧出现液面差,可检验气密性良好,故D正确;
故选C.

点评 本题考查化学实验方案的评价,为高频考点,把握化学反应原理、实验装置的作用、实验技能为解答的关键,侧重学生的分析、实验能力的考查,题目难度不大.

练习册系列答案
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8.硅是信息产业、太阳能电池光电转化的基础材料.锌还原四氯化硅是一种有着良好应用前景的制备硅的方法,该制备过程示意如图:

(1)焦炭在过程Ⅰ中作还原剂.
(2)过程Ⅱ中的Cl2用电解饱和食盐水制备,制备Cl2的化学方程式是2NaCl+2H2O通电$\frac{\underline{\;通电\;}}{\;}$2NaOH+Cl2↑+H2↑.
(3)整个制备过程必须严格控制无水.
①SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸,反应的化学方程式是SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl.
②干燥Cl2时,从有利于充分干燥和操作安全的角度考虑,需将约90℃的潮湿氯气先冷却至12℃,然后再通入到浓H2SO4中.冷却的作用是使水蒸气冷凝,减少进入浓硫酸的水量,保持持续的吸水性,并降低放出的热量.
(4)Zn还原SiCl4的反应如下:
反应1:400℃~756℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(l)△H1<0
反应2:756℃~907℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H2<0
反应3:907℃~1410℃,SiCl4(g)+2Zn(g)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H3<0
①对于上述三个反应,下列说法合理的是b c d.
a.升高温度会提高SiCl4的转化率      b.还原过程需在无氧的气氛中进行
c.增大压强能提高反应的速率         d.Na、Mg可以代替Zn还原SiCl4
②实际制备过程选择“反应3”,选择的理由是温度高,反应速率快;与前两个反应比较,更易于使硅分离,使化学平衡向右移动,提高转化率.
③已知Zn(l)═Zn(g)△H=+116KJ/mol.若SiCl4的转化率均为90%,每投入1mol SiCl4,“反应3”比“反应2”多放出208.8kJ的热量.
(5)用硅制作太阳能电池时,为减弱光在硅表面的反射,采用化学腐蚀法在其表面形成粗糙的多孔硅层.腐蚀剂常用稀HNO3和HF的混合液.硅表面首先形成SiO2,最后转化为H2SiF6.用化学方程式表示SiO2转化为H2SiF6的过程SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O.

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