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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是

A、NF3是氧化剂,H2O是还原剂             B、还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1

C、若生成0.2mol HNO3,则转移0.2mol电子 

D、NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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