题目内容
硅是信息产业、太阳能电池光电转化的基础材料.锌还原四氯化硅是一种有着良好应用前景的制备硅的方法,该制备过程示意图如下:

(1)焦炭在过程Ⅰ中做 剂.
(2)过程Ⅱ中Cl2用电解饱和食盐水制备,制备Cl2的化学方程式为 .
(3)整过生产过程必须严格控制无水.
①SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸,反应方程式为 .
②干燥Cl2时从有利于充分干燥和操作安全的角度考虑,需将约90℃的潮湿氯气先冷却至12℃,然后再通入浓H2SO4中.
(4)Zn还原SiCl4的反应如下:
反应①:400℃~756℃,SiCl4(g)+2Zn(l)═Si(S)+2ZnCl2(l)△H1<0
反应②:756℃~907℃,SiCl4(g)+2Zn(l)═Si(S)+2ZnCl2(g)△H2<0
反应③:907℃~1410℃,SiCl4(g)+2Zn(g)═Si(S)+2ZnCl2(g)△H3<0
i.反应②的平衡常数表达式为 .
ii.对于上述三个反应,下列说明合理的是 .
a.升高温度会提高SiCl4的转化率
b.还原过程需在无氧的气氛中进行
c.增大压强能提高反应速率
d.Na、Mg可以代替Zn还原SiCl4
(5)用硅制作太阳能电池时,为减弱光在硅表面的反射,可用化学腐蚀法在其表面形成粗糙的多孔硅层.腐蚀剂常用稀HNO3和HF的混合液.硅表面首先形成SiO2,最后转化成H2SiF6.用化学方程式表示SiO2转化为H2SiF6的过程 .
(1)焦炭在过程Ⅰ中做
(2)过程Ⅱ中Cl2用电解饱和食盐水制备,制备Cl2的化学方程式为
(3)整过生产过程必须严格控制无水.
①SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸,反应方程式为
②干燥Cl2时从有利于充分干燥和操作安全的角度考虑,需将约90℃的潮湿氯气先冷却至12℃,然后再通入浓H2SO4中.
(4)Zn还原SiCl4的反应如下:
反应①:400℃~756℃,SiCl4(g)+2Zn(l)═Si(S)+2ZnCl2(l)△H1<0
反应②:756℃~907℃,SiCl4(g)+2Zn(l)═Si(S)+2ZnCl2(g)△H2<0
反应③:907℃~1410℃,SiCl4(g)+2Zn(g)═Si(S)+2ZnCl2(g)△H3<0
i.反应②的平衡常数表达式为
ii.对于上述三个反应,下列说明合理的是
a.升高温度会提高SiCl4的转化率
b.还原过程需在无氧的气氛中进行
c.增大压强能提高反应速率
d.Na、Mg可以代替Zn还原SiCl4
(5)用硅制作太阳能电池时,为减弱光在硅表面的反射,可用化学腐蚀法在其表面形成粗糙的多孔硅层.腐蚀剂常用稀HNO3和HF的混合液.硅表面首先形成SiO2,最后转化成H2SiF6.用化学方程式表示SiO2转化为H2SiF6的过程
考点:硅和二氧化硅,化学平衡的影响因素
专题:
分析:(1)依据碳与二氧化硅反应中元素化合价变化判断;
(2)电解氯化钠溶液生成氢氧化钠、氯气和氢气;
(3)依据反应中原子个数守恒,结合产物性质写方程式;
(4)i.K=生成物浓度幂之积与反应物浓度幂之积之比;
ii.反应2与反应1比较,反应2产物为固体和气体比反应1更易于分离,反应3与反应2比较,温度高,反应速率更快;
(5)氟化氢跟二氧化硅反应生成四氟化硅和水,四氟化硅和氟化氢直接反应生成H2SiF6.
(2)电解氯化钠溶液生成氢氧化钠、氯气和氢气;
(3)依据反应中原子个数守恒,结合产物性质写方程式;
(4)i.K=生成物浓度幂之积与反应物浓度幂之积之比;
ii.反应2与反应1比较,反应2产物为固体和气体比反应1更易于分离,反应3与反应2比较,温度高,反应速率更快;
(5)氟化氢跟二氧化硅反应生成四氟化硅和水,四氟化硅和氟化氢直接反应生成H2SiF6.
解答:
解:(1)碳与二氧化硅反应方程式为:SiO2+2C
Si+2CO↑,碳元素在反应中化合价升高,发生氧化反应,碳做还原剂;
故答案为:还原;
(2)电解氯化钠溶液生成氢氧化钠、氯气和氢气,方程式为:2NaCl+2H2O
2NaOH+Cl2↑+H2↑;
故答案为:2NaCl+2H2O
2NaOH+Cl2↑+H2↑;
(3)根据SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸信息,反应物是SiCl4和水,生成物为二氧化硅,根据氧原子守恒,水分子前的系数为2,根据氢原子和氯原子守恒,另一产物为氯化氢,氯化氢前的系数为4,据此即可写出化学反应方程式SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl,
故答案为:SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl;
(4)i.SiCl4(g)+2Zn(l)═Si(S)+2ZnCl2(g)平衡常数表达式为:K=
;
故答案为:K=
;
ii.①对于三个反应,反应热都是△H<0表示放热,
a.升高温度,平衡向吸热的方向移动,所以会降低SiCl4的转化率,故a错误;
b.Si遇氧气在高温的条件下反应生成二氧化硅,所以还原过程需在无氧的气氛中进行,b正确;
c.有气体参加的反应,增大压强,能加快反应的速率,对于三个反应,都有气体参与,所以增大压强,能提高反应的速率,故c正确;
d.Na、Mg都是还原性比较强的金属,可以代替Zn还原SiCl4,故d正确;
故答案为:bcd;
(5)二氧化硅和氢氟酸:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O;SiF4+2HF=H2SiF6,所以用稀HNO3和HF的混合液,硅表面首先形成SiO2,最后转化为H2SiF6的化学方程式为SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O,
故答案为:SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O.
| ||
故答案为:还原;
(2)电解氯化钠溶液生成氢氧化钠、氯气和氢气,方程式为:2NaCl+2H2O
| ||
故答案为:2NaCl+2H2O
| ||
(3)根据SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸信息,反应物是SiCl4和水,生成物为二氧化硅,根据氧原子守恒,水分子前的系数为2,根据氢原子和氯原子守恒,另一产物为氯化氢,氯化氢前的系数为4,据此即可写出化学反应方程式SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl,
故答案为:SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl;
(4)i.SiCl4(g)+2Zn(l)═Si(S)+2ZnCl2(g)平衡常数表达式为:K=
| [ZnCl2]2 |
| [SiCl4] |
故答案为:K=
| [ZnCl2]2 |
| [SiCl4] |
ii.①对于三个反应,反应热都是△H<0表示放热,
a.升高温度,平衡向吸热的方向移动,所以会降低SiCl4的转化率,故a错误;
b.Si遇氧气在高温的条件下反应生成二氧化硅,所以还原过程需在无氧的气氛中进行,b正确;
c.有气体参加的反应,增大压强,能加快反应的速率,对于三个反应,都有气体参与,所以增大压强,能提高反应的速率,故c正确;
d.Na、Mg都是还原性比较强的金属,可以代替Zn还原SiCl4,故d正确;
故答案为:bcd;
(5)二氧化硅和氢氟酸:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O;SiF4+2HF=H2SiF6,所以用稀HNO3和HF的混合液,硅表面首先形成SiO2,最后转化为H2SiF6的化学方程式为SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O,
故答案为:SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O.
点评:本题考查了硅及其化合物的性质及化学平衡相关知识,掌握平衡移动原理的运用,掌握硅及其化合物的性质是解答的关键,难度中等.
练习册系列答案
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下列说法中正确的是(NA表示阿伏加德罗常数)( )
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下列叙述正确的是( )
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