题目内容


短周期元素甲、乙、丙、丁的原子序数依次增大,甲和乙形成的气态化合物的水溶液呈碱性,甲和丙同主族,丁原子最外层电子数与电子层数相等,则(  )

A.离子半径:丙>丁>乙

B.单质的还原性:丁>丙>甲

C.甲、乙、丙的氧化物均只有一种

D.乙、丙、丁的最高价氧化物对应的水化物能相互反应


解析 根据题目所给信息可以推断出甲是H,乙是N,丙是Na,丁是Al。离子半径:N3>Na>Al3,A项错误;单质的还原性:Na>Al>H2,B项错误;Na的氧化物有Na2O、Na2O2,C项错误;乙、丙、丁的最高价氧化物对应的水化物分别为HNO3(强酸)、NaOH(强碱)、Al(OH)3(两性氢氧化物),能相互反应,D项正确。

答案 D


练习册系列答案
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元素单质及其化合物有广泛用途,请根据周期表中第三周期元素相关知识回答下列问题:

(1)按原子序数递增的顺序(稀有气体除外),以下说法正确的是________。

a.原子半径和离子半径均减小

b.金属性减弱,非金属性增强

c.氧化物对应的水化物碱性减弱,酸性增强

d.单质的熔点降低

(2)原子最外层电子数与次外层电子数相同的元素名称为________,氧化性最弱的简单阳离子是________。

(3)已知:

化合物

MgO

Al2O3

MgCl2

AlCl3

类型

离子化合物

离子化合物

离子化合物

共价化合物

熔点/℃

2 800

2 050

714

191

工业制镁时,电解MgCl2而不电解MgO的原因是

________________________________________________________________________;

制铝时,电解Al2O3而不电解AlCl3的原因是

________________________________________________________________________。

(4)晶体硅(熔点1 410 ℃)是良好的半导体材料。由粗硅制纯硅过程如下:

Si(粗)SiCl4SiCl4(纯)Si(纯)

写出SiCl4的电子式________;在上述由SiCl4制纯硅的反应中,测得每生成1.12 kg纯硅需吸收a kJ热量,写出该反应的热化学方程式________________________________________________________________________________________________________________________________________________。

(5)P2O5是非氧化性干燥剂,下列气体不能用浓硫酸干燥,可用P2O5干燥的是________。

a.NH3   b.HI   c.SO2   d.CO2

(6)KClO3可用于实验室制O2,若不加催化剂,400 ℃时分解只生成两种盐,其中一种是无氧酸盐,另一种盐的阴阳离子个数比为11。写出该反应的化学方程式____________________________ ____________________________________________。

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