题目内容

关于下列各装置的叙述，正确的是

① ② ③ ④

A．装置①可用于制取氨气

B．装置②可用于吸收尾气中少量NH3或HCl，并防止倒吸

C．装置③可用于测定中和热

D．装置④可用于制备少量二氧化碳

练习册系列答案
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下列离子方程式中，属于水解反应的是

A．HCOOH+H2OHCOO－+H3O＋

B．CO2+H2OHCO3－+H＋

C．CO32－+H2OHCO3－+OH－

D．HS－S2－+H＋

设NA为阿伏加德罗常数值。下列有关叙述正确的是

A．常温时，12g石墨晶体中所含六元环数目为NA

B．标准状况下，18g D2O中所含电子数为9 NA

C．1mol N2与 4mol H2反应生成的NH3 分子数为2NA

D．标准状况下，2.24L SO3中所含原子数为0.4 NA

将一定质量的镁、铜组成的混合物加入到稀硝酸中，金属完全溶解(假设反应中还原产物全部是NO)。向反应后的溶液中加入6mol/LNaOH溶液至沉淀完全，测得生成沉淀的质量比原合金的质量增加7.65g，则下列叙述中正确的是

A．当金属全部溶解时收集到NO气体的体积为3.36L

B．当生成沉淀达到最大量时，消耗NaOH溶液的体积为V≥75ml

C．参加反应的金属的总质量一定是9.9g

D．当金属全部溶解时，参加反应的硝酸的物质的量一定是0.45mol

某化学研究性学习小组在学习了《化学反应原理》后作出了如下的归纳总结：(均在常温下) 其归纳正确的是

A．pH＝1的强酸溶液，加水稀释后，溶液中所有离子的浓度均降低

B．pH＝2的盐酸和pH＝1的醋酸，c(H+)之比为2∶1

C．反应2A(s)+B(g)=2C(g)+D(g)不能自发进行，则该反应ΔH可能小于0

D．相同浓度的盐酸和醋酸分别中和同体积同浓度的氢氧化钠溶液所需酸的体积相同

NA代表阿伏加德罗常数，下列叙述正确的是

A．2 L1mol／L的醋酸溶液中所含氢离子数为2 NA

B．1molFe与过量的稀HNO3反应，转移的电子数为2 NA

C．标准状况下分子数为NA的CO、C2H4混合气体所占体积约为22.4 L，质量为28 g

D．25℃时pH=13的NaOH溶液中含有OH一的数目为0.1 NA

氮化硅(Si3N4)是一种优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域中有重要用途。

Ⅰ.工业上有多种方法来制备氮化硅，下面是几种常见的方法：

（1）方法一 直接氮化法：在1300～1400 ℃时，高纯粉状硅与纯氮气化合，其反应方程式为3Si＋2N2Si3N4

（2）方法二 可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应，并在600 T的加热基板上生成氮化硅膜,其反应方程式为___________________。

（3）方法三 化学气相沉积法：在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl，与方法一相比，用此法制得的氮化硅纯度较高，其原因是___________________。

（4）方法四 Si(NH2)4热分解法：先用四氯化硅与氨气反应生成Si(NH2)4和一种气体__________________(填分子式)；然后使Si(NH2)4受热分解，分解后的另一种产物的分子式为_________________。

Ⅱ.工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下：

已知：X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应，Y与X在光照或点燃条件下可反应，Z的焰色呈黄色。

（1）写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式：__________________

（2）上述生产流程中电解A的水溶液时，以Cu为阳极电解A的水溶液电解反应方程式为 。

铜单质及其化合物在很多领域有重要的用途。

(1)超细铜粉可由[Cu(NH3)4]SO4制备。

① [Cu(NH3)4]SO4中金属阳离子的核外电子排布式为 。N、O、S三种元素的第一电离能大小顺序为 。(填元素符号)

②NH3分子中N原子的杂化方式为 ，与NH3互为等电子体的阳离子的化学式为 。

③ SO离子的空间构型为 。

(2)氯化亚铜(CuCl)的某制备过程是：向CuCl2溶液中通入一定量SO2，微热，反应一段时间后即生成CuCl白色沉淀。

①写出上述制备CuCl的离子方程式： 。

②CuCl的晶胞结构如图所示，其中Cl原子的配位数为 。

能说明醋酸是弱电解质的是

A．中和10mL 1mol/L CH3COOH溶液需要10ml 1mol/L NaOH溶液

B．用食醋可以除热水瓶内的水垢

C．pH=2的醋酸溶液稀释1000倍后pH小于５

D．用浓H2SO4和醋酸钠固体共热可制得醋酸

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