题目内容
硅单质及其化合物应用范围很广,请回答下列问题：
（1） 制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
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①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ；H2还原SiHCl3过程中若混02，可能引起的后果是 。
（2）下列有关说法正确的是 （填字母）。
A.碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C.普通玻璃的成分有纯碱、石灰石和石英砂，其熔点很高
D.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入盐酸溶液，振荡,则反应的离子方程式是 。
(1)① SiHCl3 + H2 === Si + 3HCl
②SiHCl3+3H2O===H2SiO3+H2↑+3HCl；H2遇O2可能发生爆炸
(2) AB ； （3） SiO32- + 2 H+ === H2SiO3↓ 。
练习册系列答案
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iCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅
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