Question

1．实验室用H₂还原SiHCl₃（沸点：31.85℃）制备纯硅的装置如图所示（夹持装置和尾气处理装置略去），下列说法正确的是（　　）

• A． 装置Ⅱ、Ⅲ中依次盛装的是浓H₂SO₄、冰水
• B． 实验时，应先加热管式炉，再打开盛装稀硫酸的分液漏斗
• C． 为鉴定制得的硅中是否含微量铁单质，需要用到的试剂为盐酸、双氧水、硫氰化钾溶液
• D． 该实验中制备氢气的装置也可用于氢氧化钠稀溶液与氯化铵固体反应制备氨气

Answer 1

分析 Ⅰ为氢气的发生装置，Ⅱ为干燥装置，浓硫酸是常用的干燥剂，装置Ⅲ需水浴加热，目的是加快反应的速率，且保持稳定恒定；装置Ⅳ不能采用普通玻璃管的原因是温度太高，普通玻璃管易熔化；保证实验成功的关键是：装置要严密；控制好温度等，以此解答该题．

解答 解：A．装置Ⅲ需水浴加热，目的是使SiHCl₃气化，与氢气反应，故A错误；
B．应先通入氢气，以排出装置内空气，防止在加热时爆炸，故B错误；
C．检验是否含有铁，加入盐酸生成氯化亚铁，加入过氧化氢可生成氯化铁，然后用KSCN检验，故C正确；
D．氨气易溶于水，不能用氢氧化钠稀溶液制备氨气，故D错误．
故选C．

点评 本题考查了物质的转化和制备题，为高频考点，侧重考查学生的分析能力和实验能力，解决本考点需要根据实验现象，综合分析，从而得出正确的结论，要注意知识的整体性，题目难度中等．