硅是一种重要的半导体材料.应用范围广.三氯苯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程如图所示:(1)硅属于元素,(2)上述流程中最后一步反应的化学方程式为 .(3)如果还原SiHCl3过程中混入O2.可能引起的后果是 .(4)该流程中可以循环利用的物质的化学式是 . 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

硅是一种重要的半导体材料，应用范围广，三氯苯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：

（1）硅属于_______(填“金属”或“非金属”)元素；

（2）上述流程中最后一步反应的化学方程式为____________。

（3）如果还原SiHCl3过程中混入O2，可能引起的后果是___________。

（4）该流程中可以循环利用的物质的化学式是_____________。

练习册系列答案

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用NA表示阿伏加德罗常数的值，则下列叙述正确的是

A．常温常压下，46g有机物C2H6O中含有极性共价键的数目一定为7NA

B．标准状况下，22.4L四氯化碳中所含有的共价键数目为4NA

C．常温常压下，14g乙烯和丙烯的混合气体中含有的原子总数为3NA

D．标准状况下，1mol苯分子中含有碳碳双键的数目为3NA

碳酸钠是造纸、玻璃、纺织、制革等行业的重要原料。工业碳酸钠(纯度约98%)中含有Ca2＋、Mg2＋、Fe3＋、Cl－和SO42－等杂质，提纯工艺流程如下：

已知碳酸钠的溶解度(S)随温度变化的曲线如下图所示：

回答下列问题：

（1）滤渣的主要成分为_______________________________。

（2）“趁热过滤”的原因是___________________________。

（3）若在实验室进行“趁热过滤”，可采取的措施是_____(写出一种)。

（4）已知：Na2CO3·10H2O (s)===Na2CO3(s)＋10H2O(g) ΔH1＝ +532.36 kJ·mol－1

Na2CO3·10H2O(s)===Na2CO3·H2O(s)＋9H2O(g) ΔH2＝ +473.63 kJ·mol－1

写出Na2CO3·H2O脱水反应的热化学方程式____________。

用铁片与稀硫酸反应制取氢气时，下列措施不能使氢气生成速率加大的是

A．加热 B．不用稀硫酸，改用98%浓硫酸

C．滴加少量CuSO4溶液 D．不用铁片，改用铁粉

电解CuSO4溶液时，要求达到三点（1）阳极质量减少；（2）阴极质量增加；（3）电解质溶液中c(Cu2+)不变，则可选用的电极是

A．纯铜作阳极，含Zn和Ag的铜合金作阴极

B．含Zn和Ag的铜合金作阳极，纯铜作阴极

C．用纯铁作阳极，纯铜作阴极

D．用石墨作阳极，纯铜作阴极

纳米球异质二聚体是纳米自动化产业中的一种新模型。它是在铂的催化作用下，二氧化硅纳米球与一个铂纳米球相结合，构成了一个纳米球异质二聚体(如图)，它可用于河流和溪水的污染控制以及人体内部器官和细胞的辅助运行。根据以上信息判断，下列有关说法正确的是

A．二氧化硅是金属氧化物

B．金属铂可以与稀盐酸反应

C．纳米球异质二聚体具有净化水功能

D．铂在反应前后质量和性质都不改变

下列说法正确的是( )

A．向某固体上滴加稀盐酸，有气泡产生，则该固体一定是碳酸盐

B．把燃着的木条插入某瓶无色气体中，木条熄灭，证明瓶中的气体是二氧化碳

C．取少量溶液于试管中，滴加氯化钡溶液，有白色沉淀生成，证明该溶液中一定有硫酸根离子

D．不用任何试剂就可以把KOH、HN03、CuSO4、MgCl2四种溶液鉴别出来

铜和镁的合金2.14g完全溶于一定浓度的硝酸，若反应中硝酸被还原为NO2、NO、N2O三种气体而且在标准状况下它们的体积均为0.224 L。在反应后的溶液中，加入足量的氢氧化钠溶液，生成的沉淀经过滤、洗涤、低温干燥后称量，质量为（）

A．4.18g B．3.12g C．4.68g D．5.08g

还原沉淀法是处理含铬(含Cr2O72-和CrO42-)工业废水的常用方法，过程如下：，已知转化过程中的反应为2CrO42-(aq)+2H+(aq)Cr2O72-(aq)+H2O（1）。转化后所得溶液中铬元素的含量为28.6g/L， CrO42-有10/11转化为Cr2O72-，下列说法不正确的是

A．溶液颜色保持不变，说明上述可逆反应达到平衡状态

B．若用绿矾(FeSO4·7H2O)作还原剂，处理1 L废水，至少需要458.7g

C．常温下转化反应的平衡常数K=1×1014，则转化后所得溶液的pH=5

D．常温下Ksp=1×10-32，要使处理后废水中的c(Cr3+)降至1×10-5mol/L，应调溶液的pH=5

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