用乙烯和其它无机原料可以合成环状化合物E.请根据框图回答下列问题:(1)写出①的反应类型加成反应.②反应条件氢氧化钠水溶液.加热．(2)C的结构简式OHC-CHO.D的结构简式HOOC-COOH．(3)写出B和D反应生成E的化学方程式CH2OHCH2OH+HOOC-COOH$? {△}^{浓硫酸}$+2H2O．(4)有机物B核磁共振氢谱表明其有2个不同化学环境题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

13．用乙烯和其它无机原料可以合成环状化合物E，请根据框图回答下列问题：

（1）写出①的反应类型加成反应，②反应条件氢氧化钠水溶液、加热．
（2）C的结构简式OHC-CHO，D的结构简式HOOC-COOH．
（3）写出B和D反应生成E的化学方程式CH₂OHCH₂OH+HOOC-COOH$?_{△}^{浓硫酸}$

+2H₂O．
（4）有机物B核磁共振氢谱表明其有2个不同化学环境的氢，且峰面积比为2：1（或1：2）．

分析乙烯与溴发生加成，则A为BrCH₂CH₂Br，水解生成B，则B为HOCH₂CH₂OH，B氧化生成C，C为OHC-CHO，C氧化生成D，则D为HOOC-COOH，B与D发生酯化反应生成E，然后结合有机物的结构和性质来解答．

解答解：乙烯与溴发生加成，则A为BrCH₂CH₂Br，水解生成B，则B为HOCH₂CH₂OH，B氧化生成C，C为OHC-CHO，C氧化生成D，则D为HOOC-COOH，B与D发生酯化反应生成E，
（1）根据上面的分析可知，①的反应类型加成反应，反应②为卤代数烃的碱性水解，所以反应条件是氢氧化钠水溶液、加热，
故答案为：加成反应；氢氧化钠水溶液、加热；
（2）根据上面的分析可知，C为OHC-CHO，D为HOOC-COOH，
故答案为：OHC-CHO；HOOC-COOH；
（3）B和D反应生成E的化学方程式为CH₂OHCH₂OH+HOOC-COOH$?_{△}^{浓硫酸}$+2H₂O，
故答案为：CH₂OHCH₂OH+HOOC-COOH$?_{△}^{浓硫酸}$+2H₂O；
（4）B为HOCH₂CH₂OH，所以B核磁共振氢谱表明其有2个不同化学环境的氢，且峰面积比为2：1（或1：2），
故答案为：2；2：1（或1：2）．

点评本题考查有机物的合成，题目难度不大，注意把握常见有机物的性质以及反应条件和反应类型，为中学阶段考试热点问题，在学习中注意积累．

练习册系列答案

相关题目

14．分子式为C₅H₁₁Cl的同分异构体共有（　　）

4．某探究小组以硫酸和铜为原料设计如下四种制硫酸铜晶体的路线：
甲：Cu$\stackrel{浓H_{2}SO_{4}、△}{→}$CuSO₄溶液$\stackrel{后续操作}{→}$CuSO₄•5H₂O$\stackrel{灼烧}{→}$CuSO₄
乙：Cu$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}}{→}$$\stackrel{稀HNO_{3}分批多次}{→}$CuSO₄溶液$\stackrel{后续操作}{→}$CuSO₄•5H₂O
丙：Cu$\stackrel{O_{2}、灼烧}{→}$CuO$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}}{→}$CuSO₄溶液$\stackrel{后续操作}{→}$CuSO₄•5H₂O$\stackrel{灼烧}{→}$CuSO₄
丁：Cu$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}、X}{→}$CuSO₄溶液$\stackrel{后续操作}{→}$CuSO₄•5H₂O$\stackrel{灼烧}{→}$CuSO₄
请回答实验中的有关问题：
（1）甲方案中发生反应的化学方程式为Cu+2H₂SO₄（浓）$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CuSO₄+SO₂↑+2H₂O．
（2）甲、乙、丙方案中，丙方案更合理，原因是不排放有毒气体．
（3）乙方案中含有c（HNO₃）=2mol•L^-1，c（H₂SO₄）=4mol•L^-1的废酸混合液100mL（不使用其它酸或氧化剂），最多能制备硫酸铜晶体（CuSO₄•5H₂O）的质量为75g．
（4）丙方案中用于灼烧的仪器名称是坩埚，该实验中的后续步骤指的是蒸发浓缩、冷却结晶、过滤、洗涤、干燥．
（5）丁方案中Cu、试剂X、稀硫酸反应的化学方程式为Cu+H₂O₂+H₂SO₄=CuSO₄+2H₂O．

1．解答下列问题：
（1）现有34g某气体，摩尔质量为17g•mol^-1，则：
①该气体为2 mol．
②该气体所含分子数为2 N_A．
③该气体在标准状况下的体积为44.8 L．
（2）若要配制100mL 0.1mo1•L^-1Na₂SO₄溶液，需称量Na₂SO₄的质量为1.42g，从所配制溶液中取出5mL，则取出溶液的物质的量浓度为0.1mo1•L^-1．
（3）将标准状况下2240mL氨完全溶于水配成100mL溶液，氨水中NH₃的物质的量浓度为1 mol•L^-1．（不考虑NH₃与H₂O的反应）
（4）4.5g H₂O与0.25 mol H₂SO₄所含的分子数相等，它们所含氧原子数之比是1：4．

8．硅单质及其化合物应用范围广．请回答下列问题：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高醇硅．三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意图如下：
石英砂$→_{高温}^{焦炭}$粗硅$→_{573K以上}^{HCl}$SiHCl₃（粗）$\stackrel{精馏}{→}$SiHCl₃（纯）$→_{1357K}^{H_{2}}$高纯硅
①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式SiHCl₃+H₂═Si+3HCl．
②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃．H₂和另一种物质．写出配平的化学反应方程式SiHCl₃+3H₂O=H₂SiO₃+H₂↑+3HCl，H₂还原SiHCl₃过程中若混O₂．可能引起的后果是高温下，H₂遇O₂发生爆炸．
（2）下列有关硅材料的说法正确的是ABCD（填字母）．
A．高纯度的硅，可用于生产光电池，将光能直接转换为电能
B．氮化硅硬度大．熔点高．可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料----光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱．石灰石和石英砂制成的
E．盐酸可以与硅反应．故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中．逐滴加入饱和氯化铵溶液．振荡．写出实验现象并给予解释生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO₃^2-与NH₄⁺发生双水解反应，SiO₃^2-+2NH₄⁺+2H₂O═2NH₃•H₂O+H₂SiO₃↓．

18．下列说法不正确的是（　　）

	A．	物质发生化学反应都伴随着能量变化
	B．	化学反应的速率和限度均可通过改变化学反应条件而改变
	C．	可逆反应只是代表少数反应
	D．	化学反应达到平衡状态时，正反应速率与逆反应速率相等

5．下列叙述正确的是（　　）
①热稳定性：H₂O＞HF＞H₂S
②SrSO₄是难溶于水的白色固体
③第ⅠA、ⅡA族元素的阳离子与同周期稀有气体元素的原子具有相同的核外电子排布
④元素周期表中从ⅢB族到ⅡB族10个纵行的元素都是金属元素　
⑤因为常温下白磷可自然，而氮气须在放电时才与氧气反应，所以非金属性：P＞N
⑥Li在氧气中剧烈燃烧，产物是Li₂O₂，其溶液是一种强碱．

2．如图所示装置中，甲、乙、丙三个烧杯依次分别盛放100g25.00%的NaCl溶液、足量的CuCl₂溶液和100g10.00%的H₂SO₄溶液，电极均为石墨电极．

接通电源，经过一段时间后，甲中b电极上得到有刺激性气味的气体，其体积为2.24L（标准状况下）．据此回答问题：
（1）电源的M端为负极．
（2）甲烧杯中电极b上发生的电极反应为2Cl^--2e^-=Cl₂．
（3）乙烧杯中电极c的析出的质量是6.4g．
（4）丙烧杯中发生反应的化学方程式为2H₂O$\frac{\underline{\;通电\;}}{\;}$2H₂↑+O₂↑．
（5）电解前后甲烧杯中溶液的pH变化情况是变大（选填：“变大”、“变小”或“不变”）简述其原因是甲中电解氯化钠溶液是电解水和氯化钠，溶液中生成NaOH的浓度增大，pH变大．

3．下列说法正确的是（　　）

	A．	CH₃CH₂OH、NH₄HCO₃都属于电解质
	B．	铝热剂、水玻璃、氨水均为混合物
	C．	铝、铁对应的氧化物均为碱性氧化物
	D．	溶液和胶体的本质区别是丁达尔效应

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