题目内容
20．一定量的铁粉和9g硫粉混合加热，待其反应后再加入过量盐酸，将生成的气体完全燃烧，共收集得18g水，求加入的铁粉质量为（ ）| A． | 14g | B． | 42g | C． | 56g | D． | 28g |
分析 Fe和S反应生成FeS，FeS、Fe都与HCl反应分别生成H2S、H2，H2S、H2都能燃烧生成水，这一过程中Fe生成亚铁离子进入溶液，所以Fe失去的电子等于氧气得到的电子，n（H2O）=$\frac{18g}{18g/mol}$=1mol，生成水氧气得到的电子物质的量=1mol×2=2mol，根据转移电子相等计算消耗铁的质量．
解答 解：Fe和S反应生成FeS，FeS、Fe都与HCl反应分别生成H2S、H2，H2S、H2都能燃烧生成水，这一过程中Fe生成亚铁离子进入溶液，所以Fe失去的电子等于氧气得到的电子，n（H2O）=$\frac{18g}{18g/mol}$=1mol，生成水氧气得到的电子物质的量=1mol×2=2mol，根据转移电子相等得消耗m（Fe）=$\frac{2mol}{2-0}×56g/mol$=56g，
故选C．
点评 本题考查混合物的计算，侧重考查分析计算能力，能从整体上把握分析是解本题关键，知道铁失电子等于氧气得到的电子即可解答，题目难度中等．
练习册系列答案
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10．下列有关叙述正确的是（ ）
| A． | 离子化合物中一定含有共价键 | |
| B． | 共价化合物中可能含有离子键 | |
| C． | 第IA族元素与第VIIA族可能形成离子化合物，也可能形成共价化合物 | |
| D． | 非金属元素间不可能形成离子化合物 |
8．各组性质比较的表示中，正确的是（ ）
| A． | 还原性：HF＜HCl＜HBr＜HI | B． | 稳定性：HF＜HCl＜HBr＜HI | ||
| C． | 氧化性：F2＜Cl2＜Br2＜I2 | D． | 沸点：Cl2＜F2＜Br2＜I2 |
15．水的电离平衡曲线如右图所示．下列说法正确的是（ ）
| A． | 图中对应点的温度关系为：a＞b＞c | |
| B． | 纯水仅升高温度，可从a点变到c点 | |
| C． | 水的电离常数KW数值大小关系为：b=d＞c | |
| D． | 在b点对应温度下，将pH=2的H2SO4与pH=10的NaOH溶液等体积混合后，溶液显中性 |
12．现有三组混合溶液：①乙酸乙酯和乙酸钠溶液 ②1-丁醇和乙醇 ③溴化钠和单质溴的水溶液，分离以上各混合液的正确方法是（ ）
| A． | 分液、萃取、蒸馏 | B． | 萃取、蒸馏、分液 | C． | 分液、蒸馏、萃取 | D． | 蒸馏、萃取、分液 |
9．下列各组离子在溶液中能大量共存的是（ ）
| A． | Na+、H+、Cu2+、NO3- | B． | Na+、Fe2+、H+、NO3- | ||
| C． | NH4+、Cl-、SO42-、OH- | D． | HCO3-、I-、Na+、OH- |
8．
硅及其化合物的开发由来已久，在现代生活中有广泛应用．回答下列问题．
（1）高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料．工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如图．
①还原炉中发生主要反应的化学方程式为SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+3HCl．该工艺中可循环使用的物质为HCl和H2（填化学式）．用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热也可以生产碳化硅，该反应的化学方程式为SiO2+3C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$ SiC+2CO↑．
②在流化床反应的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有关物质的沸点数据如下表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏（或蒸馏）．
③SiHCl3极易水解，其完全水解的化学方程式为SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑．
（2）氮化硅（Si3N4）是一种高温结构材料，粉末状态的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3反应制取．粉末状Si3N4遇空气和水都不稳定．但将粉末状的Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185°C的密闭容器中进行热处理，可以制得结构十分紧密、对空气和水都相当稳定的固体材料，同时还得到遇水不稳定的Mg3N2．
①由SiCl4和NH3反应制取Si3N4的化学方程式为3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
②四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下，加强热发生反应，使生成的Si3N4沉积在石墨表面可得较高纯度的氮化硅，该反应的化学方程式为3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
③Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185°C的密闭容器中进行热处理的过程中，除生成Mg3N2外，还可能生成SiO2物质（填化学式）．热处理后除去MgO和Mg3N2的方法是加足量稀盐酸过滤．
硅及其化合物的开发由来已久，在现代生活中有广泛应用．回答下列问题．（1）高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料．工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如图．
| 发生的主要反应 | |
| 电弧炉 | SiO2+2C$\frac{\underline{\;1600-1800℃\;}}{\;}$Si+2CO↑ |
| 流化床反应器 | Si+3HCl$\frac{\underline{\;250-300\;}}{\;}$SiHCl3+H2 |
| 还原炉 |
②在流化床反应的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有关物质的沸点数据如下表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏（或蒸馏）．
| 物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸点/°C | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
（2）氮化硅（Si3N4）是一种高温结构材料，粉末状态的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3反应制取．粉末状Si3N4遇空气和水都不稳定．但将粉末状的Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185°C的密闭容器中进行热处理，可以制得结构十分紧密、对空气和水都相当稳定的固体材料，同时还得到遇水不稳定的Mg3N2．
①由SiCl4和NH3反应制取Si3N4的化学方程式为3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
②四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下，加强热发生反应，使生成的Si3N4沉积在石墨表面可得较高纯度的氮化硅，该反应的化学方程式为3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl．
③Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185°C的密闭容器中进行热处理的过程中，除生成Mg3N2外，还可能生成SiO2物质（填化学式）．热处理后除去MgO和Mg3N2的方法是加足量稀盐酸过滤．