题目内容
下列离子方程式不正确的是
A.醋酸溶液中加入少量氢氧化镁固体:Mg(OH)2+2CH3COOH═Mg2++2CH3COO﹣+2H2O
B.H2O2溶液中加入足量酸性KMnO4溶液:2MnO4﹣+3H2O2+6H+═2Mn2++6H2O+4O2↑
C.Ca(HCO3)2溶液中加入足量澄清石灰水:Ca2++HCO3﹣+OH﹣═CaCO3↓+H2O
D.NH4HSO4的稀溶液中逐滴加入Ba(OH)2溶液至SO42﹣恰好沉淀完全:NH4++H++SO42﹣+Ba2++2OH﹣=NH3?H2O+BaSO4↓+H2O
B
【解析】
试题分析:A、醋酸是弱电解质,氢氧化镁是难溶物质,二者都不能拆开,生成的醋酸镁易溶于水,应该拆开,正确;B、过氧化氢与高锰酸钾发生氧化还原反应,Mn得到5个电子降为+2价,过氧化氢中O元素从-价升高为0价,失去2个电子,根据得失电子守恒,过氧化氢的系数是5,高锰酸根离子的系数是2,才符合得失电子守恒,错误;C、Ca(HCO3)2溶液中加入足量澄清石灰水,生成碳酸钙和水,正确;D、NH4HSO4的稀溶液中逐滴加入Ba(OH)2溶液至SO42﹣恰好沉淀完全时氢氧化钡与硫酸氢铵的物质的量比是1:1,所以生成硫酸钡沉淀、水、一水合氨,NH4++H++SO42﹣+Ba2++2OH﹣=NH3?H2O+BaSO4↓+H2O,正确,答案选B。
考点:考查离子方程式书写正误的判断
(10分)硅在地壳中的含量较高,硅及其化合物的开发由来已久,在现代生活中有广泛应用.回答下列问题:
(1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的传统的无机非金属材料,其中生产普通玻璃的主要原料有 .
(2)高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料.工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如图:
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①工业上用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热到1600℃﹣1800℃除生成粗硅外,也可以生产碳化硅,则在电弧炉内可能发生的反应的化学方程式为 .
②在流化床反应的产物中,SiHCl3大约占85%,还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化学反应方程式 .
(3)有关物质的沸点数据如下表,提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和 ;SiHCl3极易水解,其完全水解的产物为 .
物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸点/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | ﹣30.4 | ﹣84.9 | ﹣111.9 |
(4)还原炉中发生的化学反应为: .
(5)氯碱工业可为上述工艺生产提供部分原料,这些原料是 .
为除去某物质中所含的杂质,所选用的试剂或操作方法正确的是
序号 | 物质 | 杂质 | 除杂质应选用的试剂或操作方法 |
① | KNO3溶液 | KOH | 滴入稀HNO3,同时用pH试纸测定至溶液呈中性 |
② | FeSO4溶液 | CuSO4 | 加入过量铁粉并过滤 |
③ | H2 | CO2 | 依次通过盛有NaOH溶液和浓硫酸的洗气瓶 |
④ | NaNO3 | CaCO3 | 溶解、过滤、蒸发、结晶 |
A.①②③ B.②③④ C.①③④ D.①②③④