题目内容
【题目】硅是无机非金属材料的主角，硅的氧化物和硅酸盐约占地壳质量的90%以上。
（1）计算机芯片和太阳能电池的主要成分是________，光导纤维的主要成分是___________。
（2）工艺师常用氢氟酸来雕刻玻璃，该反应的化学方程式为__________。
（3）工业上可利用水玻璃和盐酸反应制备硅酸凝胶后，进一步脱水处理可得到硅胶，写出水玻璃和盐酸反应的离子方程式_______。
（4）玉石的主要成分基本都属于硅酸盐，翡翠的主要成分为NaAlSi2O6，将其表示为氧化物形式为___。
（5）高纯度单晶硅可以按下列方法制备:
SiO2 
Si(粗) 
SiHCl3 
Si(纯)
写出步骤①的化学方程式_______________________________________。
步骤②的产物经过冷凝后得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量的SiCl4(沸点57.6℃)，提纯SiHCl3主要操作的名称是_________。
【答案】Si SiO2 4HF+ SiO2 = SiF4 ↑+ 2H2O SiO32—+2H+=H2SiO3（胶体） Na2O·Al2O3·4SiO2 2C+ SiO2 
Si+ 2CO↑ 蒸馏
【解析】
（1）硅单质为半导体，光导纤维成分为二氧化硅；
（2）玻璃中含有二氧化硅，二氧化硅能和氢氟酸发生反应生成四氟化硅和水；
（3）水玻璃为硅酸钠溶液，和盐酸反应生成硅酸胶体；
（4）根据硅酸盐化学式可表示为：活泼金属氧化物·金属氧化物·非金属氧化物·水
（5）步骤①二氧化硅与碳反应生成一氧化碳和硅；
步骤②分离沸点不同的相互溶解的液体可以使用蒸馏法；
步骤③需要在无水无氧环境下进行，硅和氧气反应。
（1）计算机芯片和太阳能电池的主要成分是硅单质，光导纤维的主要成分是二氧化硅；
（2）玻璃中主要成分是二氧化硅，二氧化硅是酸性氧化物，能和碱反应，但也能和氢氟酸反应生成四氟化硅和水，反应方程式为SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O；
（3）制备硅胶，工业上可利用水玻璃和盐酸反应制备硅酸后，进一步处理可得到硅胶，写出水玻璃和盐酸反应的化学方程式为：2HCl+Na2SiO3=H2SiO3（胶体）+2NaCl；
（4）硅酸盐表示为氧化物时书写顺序是：活泼金属氧化物、较活泼金属氧化物、二氧化硅、水，所以其化学式为Na2O·Al2O3·4SiO2；
（5）步骤①二氧化硅与碳反应生成一氧化碳和硅，2C+ SiO2 
Si+ 2CO↑ ；
步骤②SiHCl3（沸点33.0℃）、SiCl4（沸点57.6℃）、HCl（沸点-84.7℃），他们的沸点不同，根据沸点的不同实现物质分离的方法为蒸馏或分馏；
心算口算巧算一课一练系列答案
【题目】煤化工中常需研究不同温度下的平衡常数、投料比及产率等问题。已知：CO（g）＋H2O（g）
CO2（g）＋H2（g）的平衡常数随温度的变化如下，试回答下列问题：
温度/℃ | 400 | 500 | 830 | 1000 |
平衡常数K | 10 | 9 | 1 | 0.6 |
（1）该反应的平衡常数表达式K=__________。该反应的正反应是______反应（填“放热”或“吸热”）。
（2）某温度下，上述反应达到平衡后，恒容、升高温度，原化学平衡向______反应方向移动（填“正”或“逆”），容器内混合气体的压强________（填“增大”、“减小”或“不变”）。
（3）能判断该反应是否达到化学平衡状态的依据是（_____）
a．容器中压强不变b．混合气体中c（CO）不变
c．v正（H2）=v逆（H2O） d．c（CO2）=c（CO）
（4）830℃，在恒容反应器中发生如表中的反应，按表中的物质的量投入反应混合物，其中向正反应方向进行的有__________（选填A、B、C、D）
n（CO） | n（H2O） | n（H2） | n（CO2） | |
A | 1 | 5 | 2 | 3 |
B | 2 | 2 | 1 | 1 |
C | 3 | 3 | 0 | 0 |
D | 0. | 2 | 1 | 1 |
