题目内容

4.在一定条件下发生下列反应,少量的物质可以反应完的是(  )
A.过量的MnO2和少量的浓HClB.过量的铜和少量的浓硫酸溶液
C.过量的氮气和少量的氢气合成氨D.过量的铁和少量的硝酸

分析 A.二氧化锰与稀盐酸不反应;
B.Cu与稀硫酸不反应;
C.氮气与氢气的反应属于可逆反应;
D.Fe与硝酸反应时,硝酸能完全反应.

解答 解:A.过量的MnO2和少量的浓HCl,随着反应进行盐酸的浓度较小,二氧化锰与稀盐酸不反应,所以HCl不能完全反应,故A不选;
B.过量的铜和少量的浓硫酸溶液,随着反应进行硫酸的浓度较小,Cu与稀硫酸不反应,所以硫酸不能完全反应,故B不选;
C.氮气与氢气的反应属于可逆反应,所以过量的氮气和少量的氢气合成氨反应中氢气不能全部反应,故C不选;
D.Fe与浓硝酸、稀硝酸均能反应,所以过量的铁和少量的硝酸反应,硝酸能完全反应,故D选.
故选D.

点评 本题考查了元素化合物的性质,题目难度不大,注意把握反应中反应物的浓度不变时发生的反应不同,侧重于基础知识的考查.

练习册系列答案
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15.硅是重要的半导体材料,构成了现代电子工业的基础.回答下列问题:
(1)基态Si原子中,电子占据的最高能层符号M,该能层具有的原子轨道数为9、电子数为4.
(2)硅主要以硅酸盐、二氧化硅等化合物的形式存在于地壳中.
(3)单质硅存在与金刚石结构类似的晶体,其中原子与原子之间以共价键相结合,其晶胞中共有8个原子,其中在面心位置贡献3个原子.
(4)单质硅可通过甲硅烷(SiH4)分解反应来制备.工业上采用Mg2Si和NH4CI在液氨介质中反应制得SiH4,该反应的化学方程式为Mg2Si+4NH4Cl=SiH4+4NH3+2MgCl2
(5)碳和硅的有关化学键键能如下所示,简要分析和解释下列有关事实:
化学键C-CC-H
 
C-OSi-SiSi-HSi-O
键能(KJ/mol)
 
356
 
413336226318452 
①硅与碳同族,也有系列氢化物,但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多,原因是C-C键和C-H键较强,所形成的烷烃稳定.而硅烷中Si-Si键和Si-H键的键能较低,易断裂,导致长链硅烷难以生成.
②SiH4的稳定性小于CH4,更易生成氧化物,原因是C-H键的键能大于C-O键,C-H键比C-O键稳定.而Si-H键的键能却远小于Si-O键,所以Si-H键不稳定而倾向于形成稳定性更强的Si-O键.
(6)在硅酸盐中,SiO44-四面体(如下图a)通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式.图b为一种无限长单链结构的多硅酸根;其中Si原子的杂化形式为sp3.Si与O的原子数之比为1:3化学式为SiO32-
9.已知二氧化硅,二氧化硫和二氧化碳都是酸性氧化物,化学性质具有一定的相似性,镁和钠的化学性质也具有一定的相似性.

Ⅰ.用如上图所示装置进行镁和二氧化硫的实验,其中A是制备二氧化硫的发生装置.
(1)选择制取二氧化硫的合适试剂②③(填序号).
①10%的硫酸溶液②80%硫酸溶液③亚硫酸钠固体④亚硫酸钙固体
(2)写出装置B中发生反应的化学方程式:3Mg+SO2$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$2MgO+MgS(或2Mg+SO2$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$2MgO+S,Mg+S$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$MgS).
装置C中氢氧化钠溶液的作用是吸收过量二氧化硫,防止污染环境.
(3)请在图中画出制备二氧化硫的发生装置,注明仪器名称,固定仪器省略不画.
(4)你认为该装置的不足之处是在A和B之间没有连接一个干燥装置、C装置未与大气相通、在镁下方未垫一个不锈钢片、镁与玻璃管反应、未设计一个防倒吸装置(任写2条).
Ⅱ.某研究性学习小组进行了“实验室制硅”的研究,查阅资料知:①工业上在高温时用碳还原二氧化硅可制得硅;②镁在点燃的条件下即可与二氧化硅反应;③金属硅化物与稀硫酸反应生成硫酸盐与四氢化硅;④四氢化硅在空气中自燃.
他们在实验报告中记录着:“…选用合适的物质在适宜的条件下充分反应,再用足量稀硫酸溶解固体产物;然后过滤,洗涤,干燥,最后称量…在用稀硫酸溶解固体产物时,发现有爆鸣声和火花,其产率也只有预期值的63%左右.”
(5)该小组“实验室制硅”的化学方程式是2Mg+SiO2$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$2MgO+Si.
(6)你估计“用稀硫酸溶解固体产物时,发现有爆鸣声和火花:的原因是金属镁与生成的硅继续反应生成硅化镁,硅化镁与稀硫酸反应生成的SiH4可自燃.

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