题目内容
下表是周期表中的一部分，根据A～I在周期表中的位置，回答以下问题，其中（1）、（2）小题用元素符号或化学式回答，（3）（4）按题目要求回答：
（1）表中元素，化学性质最不活泼的是 ，除稀有气体外，原子半径最大的是 ，可用于制半导体材料的元素是 ，形成化合物种类最多的元素是 ；
（2）最高价氧化物对应水化物酸性最强的是 ，A分别与D、E、F、G、H形成的化合物中，最稳定的 ；
（3）元素E和元素H的氢化物均极易溶于水，用两根玻璃棒分别蘸取它们的浓溶液，相互接近时，可看到大量的白烟，写出产生该现象的化学方程式 ．
（4）B、C两元素的最高价氧化物对应水化物之间反应的离子方程式是： ．
| 族周期 | ⅠA | ⅡA | ⅢA | ⅣA | ⅤA | ⅥA | ⅦA | 0 |
| 1 | A | |||||||
| 2 | D | E | G | |||||
| 3 | B | C | J | F | H | I |
（2）最高价氧化物对应水化物酸性最强的是
（3）元素E和元素H的氢化物均极易溶于水，用两根玻璃棒分别蘸取它们的浓溶液，相互接近时，可看到大量的白烟，写出产生该现象的化学方程式
（4）B、C两元素的最高价氧化物对应水化物之间反应的离子方程式是：
考点：元素周期律和元素周期表的综合应用
专题：元素周期律与元素周期表专题
分析：由元素在周期表中的位置可知，A为氢、B为Na、C为Al、D为碳、E为氮、F为磷、G为氟、H为Cl、I为Ar、J为Si，
（1）稀有气体原子最外层为稳定结构，化学性质最不活泼；同周期自左而右原子半径减小，同主族自上而下原子半径增大，故原子半径最大元素处于第三周期ⅠA族；用于制半导体材料的元素是硅，形成化合物种类最多的元素是碳；
（2）最高价氧化物对应水化物酸性最强的是高氯酸；非金属性越强，氢化物越稳定；
（3）氨水与盐酸都具有挥发性，挥发出的氨气与氯化氢反应生成氯化铵，而冒白烟；
（4）氢氧化铝与氢氧化钠反应生成偏铝酸钠与水．
（1）稀有气体原子最外层为稳定结构，化学性质最不活泼；同周期自左而右原子半径减小，同主族自上而下原子半径增大，故原子半径最大元素处于第三周期ⅠA族；用于制半导体材料的元素是硅，形成化合物种类最多的元素是碳；
（2）最高价氧化物对应水化物酸性最强的是高氯酸；非金属性越强，氢化物越稳定；
（3）氨水与盐酸都具有挥发性，挥发出的氨气与氯化氢反应生成氯化铵，而冒白烟；
（4）氢氧化铝与氢氧化钠反应生成偏铝酸钠与水．
解答：
解：由元素在周期表中的位置可知，A为氢、B为Na、C为Al、D为碳、E为氮、F为磷、G为氟、H为Cl、I为Ar、J为Si，
（1）稀有气体Ar原子最外层为稳定结构，化学性质最不活泼；同周期自左而右原子半径减小，同主族自上而下原子半径增大，故Na原子半径最大；用于制半导体材料的元素是硅，形成化合物种类最多的元素是碳，
故答案为：Ar；Na；Si；C；
（2）最高价氧化物对应水化物酸性最强的是高氯酸，化学式为HClO4；F元素非金属性最强，故HF的稳定性最强，
故答案为：HClO4；HF；
（3）氨水与盐酸都具有挥发性，挥发出的氨气与氯化氢反应生成氯化铵，而冒白烟，该反应方程式为：NH3+HCl=NH4Cl，
故答案为：NH3+HCl=NH4Cl；
（4）氢氧化铝与氢氧化钠反应生成偏铝酸钠与水，反应离子方程式为：Al（OH）3+OH-=AlO2-+2H2O，
故答案为：Al（OH）3+OH-=AlO2-+2H2O．
（1）稀有气体Ar原子最外层为稳定结构，化学性质最不活泼；同周期自左而右原子半径减小，同主族自上而下原子半径增大，故Na原子半径最大；用于制半导体材料的元素是硅，形成化合物种类最多的元素是碳，
故答案为：Ar；Na；Si；C；
（2）最高价氧化物对应水化物酸性最强的是高氯酸，化学式为HClO4；F元素非金属性最强，故HF的稳定性最强，
故答案为：HClO4；HF；
（3）氨水与盐酸都具有挥发性，挥发出的氨气与氯化氢反应生成氯化铵，而冒白烟，该反应方程式为：NH3+HCl=NH4Cl，
故答案为：NH3+HCl=NH4Cl；
（4）氢氧化铝与氢氧化钠反应生成偏铝酸钠与水，反应离子方程式为：Al（OH）3+OH-=AlO2-+2H2O，
故答案为：Al（OH）3+OH-=AlO2-+2H2O．
点评：本题考查元素周期表与元素周期律的综合应用，难度不大，注意把握元素周期表的结构．
练习册系列答案
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下列各烷烃进行取代反应后能生成四种一氯代物的是（ ）
A、 |
B、 |
C、 |
D、 |
在以铁、铜为两电极的原电池中，如图所示：